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ICPCVD制备硅薄膜结构的椭偏光谱研究

王晓强 , 贺德衍 , 李明亚 , 甄聪棉 , 韩秀梅

稀有金属材料与工程

利用单圈内置式ICP-CVD方法在室温下制备了Si薄膜.在拉曼光谱、原子力显微镜(AFM)对样品结构分析的基础上,采用对样品结构无损伤的椭圆偏振光谱(SE)法对样品进行了测量,结合有效介质近似(EMA)模型,对样品的微结构进行了计算拟合.拉曼光谱及AFM分析表明:样品为具有纳米晶相的Si薄膜;分光椭圆偏振法结合EMA模型对样品微结构的拟合分析得出了同样的结论,说明即使在室温下用ICP-CVD也获得了具有纳米晶相的Si薄膜,薄膜微结构与源气体SiH4浓度有密切关系.说明分光椭圆偏振法是研究薄膜材料的一种有力手段.

关键词: ICP-CVD , Si薄膜 , 低温生长 , 椭偏光谱法

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