赵佳明
,
边继明
,
孙景昌
,
张东
,
梁红伟
,
骆英民
功能材料
采用直流磁控溅射法在聚酰亚胺(PI)柔性衬底上生长氧化铟锡(ITO)薄膜,采用XP-2探针台阶仪、X射线衍射(XRD)、霍尔测试仪、紫外-可见分光光度计等对ITO薄膜进行结构和光电性能表征.结果表明溅射功率和沉积气压是影响磁控溅射法生长ITO薄膜透明导电性能的主要因素,实验系统研究了溅射功率和沉积气压对ITO薄膜透明导电性能的影响机制.在优化的工艺条件下(溅射功率100W和沉积气压0.4Pa),制备了在可见光区平均透射率达86％、电阻率为3.1×10-4 Ω·cm的光电性能优良的ITO透明导电薄膜.
关键词:
磁控溅射
,
聚酰亚胺(PI)
,
柔性衬底
,
ITO透明导电膜
赵海娇
,
王丛
,
石晓光
,
刁训刚
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2010.06.016
利用直流磁控溅射方法,在Ar和O2的混合气氛中,采用陶瓷靶制备ITO薄膜;采用紫外-可见-红外分光光度计和四探针法研究了溅射工艺参数对ITO薄膜的光电特性的影响.实验结果表明,当靶材角度在23-25℃、O2流量在7-9sccm、溅射时间在60-90min和溅射功率在100-120W时获得可见光透过率高于90%,方阻在10-20Ω/口之间的优质ITO薄膜.
关键词:
ITO透明导电膜
,
直流磁控溅射
,
室温沉积
,
靶材倾斜角度
