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In掺杂对MVB-Te溶剂法生长的ZnTe晶体光电性能的影响

刘航 , 介万奇 , 徐亚东 , 杨睿

人工晶体学报

采用Te溶剂结合改进的垂直布里奇曼法(MVB)制备了In:ZnTe与ZnTe晶体,并对晶体的光学与电学特性进行了表征.通过红外透过显微成像技术观察了In:ZnTe与ZnTe中的Te夹杂并进行了统计分析,发现In掺杂未对ZnTe中的Te夹杂的分布和尺寸产生显著影响.红外透过光谱分析表明,In:ZnTe与ZnTe晶体的红外透过率曲线均表现出平直的趋势,且其平均透过率基本相等,约为60%,进一步表明In的掺入并未导致严重的晶格和杂质吸收.然而,Ⅰ-Ⅴ测试分析发现,In掺杂使得ZnTe晶体的电阻率提高了5个数量级.同时Hall测试分析表明,In:ZnTe与ZnTe晶体均为p型导电,In掺杂很大程度上补偿了晶体中的Vzn,使得晶体中的载流子浓度降低了4个数量级.对比了两种晶体的紫外-可见-近红外透过光谱,可以观察到,In掺杂使ZnTe的吸收边从550 nm红移到560nm,这可能是由于In掺杂引入的浅能级导致的吸收边带尾现象造成的.

关键词: MVB-Te溶剂法 , In掺杂 , 红外透过显微成像 , Ⅰ-Ⅴ测试 , Hall测试

In掺杂对化学共沉淀法合成的SnO_2粉体Zeta电位的影响

胡学兵 , 周健儿 , 徐小勇 , 汪永清 , 张小珍

人工晶体学报

以四氯化锡、三氯化铟和氨水为原料,采用化学共沉淀法制备了In掺杂SnO_2粉体.实验采用XRD和Zeta电位分析仪对In掺杂SnO_2粉体的物化性能进行了研究.结果表明:当In掺杂浓度为2 mol%时,掺杂SnO_2粉体具有较低的Zeta电位.相对于纯SnO_2粉体,In掺杂改变了SnO_2的晶胞参数并增大了其晶胞体积.

关键词: SnO_2粉体 , In掺杂 , Zeta电位 , 晶胞体积

磁场热处理对Nd2Fe14B/α-Fe纳米材料磁性和微磁结构的影响

计齐根 , 都有为

材料科学与工艺 doi:10.3969/j.issn.1005-0299.2000.04.005

对Nd2Fe14B/α-F基纳米交换耦合磁体进行了磁场热处理的研究.研究发现:退火温度在硬磁相居里点附近时(300~400 ℃)有明显的处理效果;磁场处理可加强磁性相之间的耦合,提高磁体的矯顽力和剩磁比;磁场可以引发晶粒间的相对滑动和调整;低熔点金属In的少量添加有助于在外加磁场中晶粒的转动.

关键词: 磁场热处理 , 纳米交换耦合磁体 , In掺杂 , 晶粒转动

水热法制备In掺杂ZnO薄膜的表面形貌及其光学性质

戴结林 , 江瑶瑶 , 尚凤娇 , 周智涛 , 王峰 , 赵敏 , 吕建国

硅酸盐通报

采用水热法在ZnO籽晶层上制备了不同In掺杂量的ZnO薄膜,用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)、紫外可见分光光度计和荧光光谱仪等测试分析薄膜的微结构、表面形貌、透射谱和室温光致发光谱.结果表明,In离子的掺入未改变薄膜的晶相结构,但抑制了ZnO晶粒的生长,使得ZnO的结晶度明显下降.随着In含量的增加,薄膜表面rms粗糙度和平均颗粒尺寸均逐渐减小,光学带隙Eg先增大后减小.所有薄膜的PL谱中均观察到405 nm左右的紫光发光带,研究了In掺杂量对紫光发光带的强度和峰位的影响,并对其紫光发射机理进行了探讨.

关键词: In掺杂 , ZnO薄膜 , 表面形貌 , 光致发光谱

CaZr0.9In0.1O3-α高温质子导体管的制备及性质表征

王东 , 史苍际 , 刘春明 , 王常珍

金属学报 doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2008.02.010

采用固相反应法合成了高温质子导体CaZr0.9In0.1O3-α.XRD分析表明,混合粉体经1673 K×10 h煅烧后形成了预期的钙钛矿结构的CaZrO3基固溶体.激光粒度分析表明,煅烧后的粉体粒度呈双峰分布,主峰对应0.389-0.584 μm,次峰对应3.409-5.867 μm,平均粒径为1.878 μm.采用热压铸成型并经1823 K×8 h烧结的质子导体管密度为理论密度的97.44%,SEM断口形貌显示其颗粒尺寸在1-3 μm之间,结构致密. EDS和电感耦合等离子发射光谱分析(ICP-AES)表明,烧结后的材料中In含量降低. DSC-TG分析表明这是由于在烧结过程中部分In2O3升华和离解造成的.CaZr0.9In0.1O3-α在空气氛中931-1300 K范围内的电导率为9.10×10-5-1.21×10-2S/cm,略低于氢气氛下的测定值,但高于CaZr0.9 In0.1 O3-α>在空气中的测定值,电导激活能为1.47 eV,符合理论预测.

关键词: CaZrO3 , In掺杂 , 高温质子导体 , 交流阻抗谱 , 电导率

CdZnTe晶体生长中掺In量对晶体电学性能的影响

袁铮 , 桑文斌 , 钱永彪 , 刘洪涛 , 闵嘉华 , 滕建勇

无机材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2008.01.038

通过在富Te环境下生长In掺杂CdZnTe晶体,实验研究了不同掺In量对晶体电学性能的影响,重点讨论了不同掺In量与晶体电阻率、载流子浓度及迁移率之间的关系.并对CdZnTe晶体中In掺杂的补偿机理进行了分析探讨.结果表明,当In掺杂量为5×1017cm-3时,得到了电阻率达1.89×1010Ω·cm的高阻CdZnTe晶体.

关键词: 核探测器 , CdZnTe , In掺杂 , 电学性能

In掺杂β-Zn4Sb3热电材料的制备与电热输运

马兵 , 程苏丹 , 赵文俞 , 张清杰

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2010.00598

设计了一系列名义组成为Zn4Sb3-xInx(0~0.08,Δx=0.02)的In掺杂β-Zn4Sb3基块体材料,并用真空熔融-随炉冷却-放电等离子体烧结工艺成功制备出无裂纹的In掺杂单相β-Zn4Sb3基块体材料.300~700 K内材料的电热输运特性表明,In杂质对Zn4Sb3化合物的Sb位掺杂可导致载流子浓度和电导率大幅度增大、高温下本征激发几乎消失和晶格热导率显著降低,x=0.04和0.08的Zn4Sb3-xInx的In掺杂β-Zn4Sb3化合物700K时晶格热导率均仅为0.21W/(m·K).与纯β-Zn4Sb3块体材料相比,所有In掺杂β-Zn4Sb3基块体材料的ZT值均显著增大,x=0.06的Zn4Sb3-xInx的In掺杂β-Zn4Sb3基块体材料700K时ZT值达到1.13,提高了69%.

关键词: 热电材料 , β-Zn4Sb3 , In掺杂 , 电热输运

In、Ta共掺对BaCeO3烧结性能及稳定性的影响

杨春利 , 严敏 , 李伟

无机材料学报 doi:10.15541/jim20160021

采用改进的柠檬酸盐法制备了不同In、Ta掺杂量的BaCeO3基质子导体粉体,干压成型后分别在1 150℃、1250℃和1350℃下进行烧结.采用X射线衍射仪、扫描电镜分别对质子导体的物相结构和微观形貌进行了表征,并采用电化学工作站测定了样品不同温度下的电导率.结果表明,1350℃烧结样品气孔率均小于10%,并且In掺杂量越高越容易烧结.样品在CO2和H2O中的化学稳定性测试结果表明,只掺杂In可以提高样品在水中的化学稳定性,但是对粉末样品高浓度CO2气氛下的稳定性影响不大.In、Ta共掺杂可以大幅度提高样品在CO2中的稳定性,且稳定性随着Ta掺杂量的增加而提高.但是样品在10%湿润氢气气氛下的电导率随着Ta含量的增加而降低,其中,BaCe0.7In0.25Ta0.05O3-δ在800℃时湿氢气下的电导率为1.16×10-3 S/cm.

关键词: BaCeO3 , In掺杂 , Ta掺杂 , 烧结活性 , 化学稳定性

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