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丁艳芳 , 门传玲 , 陈韬 , 朱自强 , 林成鲁
功能材料
研究了采用脉冲激光沉积(PLD)技术在Si(100)衬底上AlN薄膜的制备及其性质.结果表明,衬底温度从室温到800℃的范围内,所得到的AlN薄膜为(002)择优取向的纤锌矿结构.随着衬底温度的升高,AlN薄膜从纳米晶结构转为多晶结构,同时表面微粗糙度上升.AlN晶粒呈柱状生长机制.
关键词: AlN薄膜 , KrF准分子脉冲激光沉积 , 微结构
