欢迎登录材料期刊网

材料期刊网

高级检索

  • 论文(1)
  • 图书()
  • 专利()
  • 新闻()

碳化硅与LAS(Li2O-Al2O3-SiO2)界面化学稳定性研究

曹涯路 , 王利 , 杨光义 , 潘颐

材料科学与工程学报 doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2004.06.027

借助最新最权威基本的热力学数据,按化学平衡理论,分析SiC和LAS(Li2O-Al2O3-SiO2)之间可能发生的化学反应,定量计算在SiC中不同C活度,不同温度下SiC和LAS间诸反应各气相产物的分压和分压总和,精确分析SiC和LAS界面的热力学稳定性,提供在一个大气压惰性气体环境下,SiC和LAS界面的热力学失稳判据,为SiC材料研究者提供可靠的参考资料.

关键词: 碳化硅 , LAS(Li2O-Al2O3-SiO2) , 界面热力学 , 化学稳定性

出版年份

刊物分类

相关作者

相关热词