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化学溶液法制备涂层导体过渡层La2Zr2O7厚膜的研究

王榕 , 索红莉 , 程艳玲 , 刘敏 , 赵跃 , 叶帅 , 高忙忙 , 周美玲

人工晶体学报

为制备高质量的双轴织构La2Zr2O7(LZO)涂层导体过渡层,本文采用化学溶液法(Chemical solution deposition,简称CSD法),以乙酰丙酮镧和乙酰丙酮锆为溶质,丙酸为溶剂配制成前驱盐溶液,在立方织构的Ni-5 at%W基底上用快速一步法退火工艺制备了LZO种子层及双层LZO厚膜.SEM观察种子层呈岛状均匀排列,符合种子层形貌特点.XRD结果显示0.06 mol/L浓度种子层上制备的LZO厚膜具有很强的双轴立方织构,其中(222)面Phi扫描和(400)面摇摆曲线半高宽值分别为6.37°和5.82°.SEM观察发现120 nm厚的LZO薄膜表面平整,无裂纹,为后续沉积YBCO提供了很好的模板.

关键词: 涂层导体 , CSD方法 , LZO过渡层 , 种子层

热处理工艺对Ni-7W合金基带立方织构的影响

祝永华 , 索红莉 , 赵跃 , 高忙忙 , 程艳玲 , 马麟 , 高培阔 , 王建宏 , 吉元 , 周美玲

稀有金属材料与工程

采用先进的放电等离子烧结技术(SPS)制备Ni-7W(at%,下同)(Ni7W)合金初始锭,通过高能球磨使Ni、W粉末充分混合,优化冷轧和热处理工艺制备出高立方织构的Ni7W合金基带.基带晶粒大小均匀,电子背散射衍射技术(EBSD)测试结果显示:该Ni7W基带表面10°以内立方织构晶粒含量高达99.4%,10°以内晶界长度含量为93.6%;XRD测得的基带(111)Phi扫描和(200)摇摆曲线表明:基带的面内和面外半高宽分别是6.32°和5.4°,表明基带具有锐利的立方织构.在该基带上制备的La2Zr2O7(LZO)过渡层显示,LZO很好地外延生长了基底的织构,LZO薄膜(222)面φ扫描和(400)面摇摆曲线的半高宽值分别为7.57°和5.73°.

关键词: Ni7W基带 , 织构 , 再结晶退火 , 电子背散射衍射(EBSD) , LZO过渡层

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