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溅射环境下基片表面所受到的轰击能量研究

李洪涛 , 蒋百灵 , 杨波 , 曹政

人工晶体学报

溅射环境下基于薄膜的沉积速率和Langmuir探针测出的基片位置处离子流通量量化了单位时间内基片表面微区所接受的溅射中性原子的轰击能量Ec1和各种轰击离子传递给基片的轰击能量Ec2;Ec1和Ec2的数量级近似相同,Ec1和Ec2同时作用于基片表面微区加速了薄膜沉积过程中最表层原子的表面扩散进程,Ec1和Ec2持续作用所引起的能量积淀和温升效应可促进薄膜表层下方原子的体扩散进程.

关键词: 溅射 , Langmuir探针 , 轰击能量 , 微观形貌

磁场闭合状态对磁控溅射Cr镀层沉积效果的影响差异分析

蒋百灵 , 曹政 , 丁小柯 , 鲁媛媛

材料科学与工程学报

采用磁场完全闭合状态和不闭合状态两种磁场组态分别沉积Cr镀层,并利用Langmuir探针诊断其放电等离子体,测量了离子密度、电子密度和电子温度(EED)在两种磁场组态中的分布规律.结果表明:磁场不闭合状态时的等离子体密度较低,而完全闭合状态显著增加了真空腔中部的带电粒子数目.两种不同磁场组态中Cr镀层的沉积速率在靶电流相同的情况下相近.其中不闭合状态的Cr镀层截面为粗大而疏松的柱状结构,表面较粗糙;而完全闭合状态的镀层的柱状生长受到阻碍,表面光滑、平整,致密性好.

关键词: 完全闭合状态 , 不闭合状态 , Langmuir探针 , Cr镀层 , 离子轰击

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