李景
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顾济华
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钱波
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蒋春萍
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马仙梅
材料导报
采用激光脉冲沉积法(PLD)在石英玻璃上成功制备了一系列MgZnO薄膜.并通过选用高Mg含量的靶材,成功将薄膜的吸收边调节至极紫外区域(200～280nm),经计算MgZnO薄膜的带隙高达5.46eV.进一步研究这种高Mg含量的MgZnO薄膜的结构特性,对薄膜进行了热退火处理,并首次观察到依赖于退火温度变化的(220)取向衍射峰的变化.
关键词:
MgZnO薄膜
,
禁带宽度
,
(220)取向
,
退火温度
高丽丽
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徐莹
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张淼
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张跃林
,
姚斌
液晶与显示
doi:10.3788/YJYXS20142903.0350
利用射频磁控溅射技术,高纯的氩气作为溅射气体,分别选用不同Mg含量的MgxZn1-xO陶瓷靶材,在石英衬底上生长六角纤锌矿结构的MgxZn1-xO薄膜,并对薄膜进行了后期热退火处理.研究了Mg含量对MgxZn1-xO薄膜光学性质的影响.实验结果显示,随着Mg含量的增加,薄膜的带隙变宽;光致发光光谱中近带边发射中心蓝移,近带边紫外发射与可见光区深能级发射强度比值减小,发光质量下降;拉曼光谱仍然保持着ZnO的拉曼振动模式,但随着Mg含量的增加,E2high振动峰逐渐展宽,峰型对称性变差.分析表明,随着Mg的合金化,薄膜中产生了更多的杂质缺陷,结晶质量下降.
关键词:
射频磁控溅射
,
MgZnO薄膜
,
Mg含量
,
光学性能
高丽丽
,
刘军胜
,
张淼
,
张跃林
液晶与显示
doi:10.3788/YJYXS20142904.0499
利用磁控溅射设备,Mg0.04Zn0.96O陶瓷靶材,以高纯的氮气与氩气混合气体作为溅射气体,在石英衬底上沉积获得了N掺杂p型Mg0.07Zn0.93O薄膜,薄膜的电阻率为21.47 Ω·cm,载流子浓度为8.38×1016 cm 3,迁移率为3.45 cm2/(V·s).研究了该薄膜的结构与光学性能.实验结果显示,其拉曼光谱中出现了位于272和642 cm 1左右与No相关的振动模.低温光致发光光谱中,可以观察到位于3.201,3.384和3.469 eV的3个发光峰,其中位于3.384 eV的发光峰归因为导带电子到缺陷能级的复合发光,而位于3.469 eV的发光峰归因为受主束缚激子(A0X)的辐射复合,这说明该N掺杂MgZnO薄膜的空穴载流子主要来自No受主的贡献.
关键词:
射频磁控溅射
,
MgZnO薄膜
,
N掺杂
,
p型
