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NiTi形状记忆薄膜的溅射制备及晶化热处理工艺

宫峰飞 , 王业宁 , 沈惠敏

材料热处理学报 doi:10.3969/j.issn.1009-6264.2001.04.010

用磁控溅射法制备了MiTi非晶薄膜.薄膜无形状记忆效应.研究了经不同晶化热处理后的形状记忆效应,获得的最佳晶化热处理条件为500～700℃范围内晶化0.5h.

关键词: NiTi形状记忆薄膜 , 溅射制备 , 晶化热处理