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等离子体浸没式离子注入圆形薄片均匀性研究

江炳尧 , 郑望 , 王曦

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2002.01.016

采用PIC(Particalincall)方法考察了等离子体浸没式离子注入工艺中,样品和靶台的几何尺寸、形状及防止溅射沾污的绝缘材料对于注入离子径向分布的影响.并对模拟结果进行了讨论分析.结果表明,影响剂量分布的主要因素是基片和靶台的横向尺寸,为改善等离子体浸没式离子注入均匀性的研究提供参考数据.

关键词: PIII , PIC , 等离子鞘层

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