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氧化石墨烯在水热法制备Sc2W3O12粉体中的应用

居相文 , 吴日民 , 周亚洲 , 马双彪 , 杨娟 , 程晓农

无机材料学报 doi:10.15541/jim20140357

以硝酸钪,钨酸铵等为原料,氧化石墨烯为表面活性剂,采用水热法制备了类十字架状 Sc2W3O12粉体。利用XRD、TG-DSC、Raman及SEM考察了加入氧化石墨烯对所合成产物结构和形貌的影响,采用TMA测试了所得Sc2W3O12粉体的热膨胀性质。分析表明:在200℃水热条件下,氧化石墨烯包裹在Sc2W3O12晶粒表面并抑制了原有某些晶面的增长,使晶粒逐渐长为棒状,进而纳米棒团聚成类十字架状,产物经620℃热处理10 min后得到纯净的Sc2W3O12粉体,其在室温~800℃均呈现出负热膨胀特性,且平均热膨胀系数为-4.75×10-6/K。

关键词: 氧化石墨烯 , 表面活性剂 , Sc2W3O12 , 负热膨胀

Sc2W3O12薄膜制备及其负热膨胀性能

张志萍 , 刘红飞 , 潘坤旻 , 陈小兵 , 曾祥华

无机材料学报 doi:10.15541/jim20150219

采用脉冲激光沉积法制备了斜方相Sc2W3O12薄膜.利用X射线衍射仪(XRD)和场发射扫描电镜(FESEM)对Sc2W3O12靶材和Sc2W3O12薄膜组分、表面形貌和靶材断面形貌进行表征,研究衬底温度与氧分压对薄膜制备的影响.采用变温XRD和热机械分析仪(TMA)分析了Sc2W3O12陶瓷靶材和薄膜的负热膨胀特性.实验结果表明:经1000℃烧结6h得到结构致密的斜方相Sc2W3O12陶瓷靶材,其在室温到600℃的温度范围内平均热膨胀系数为-5.28×10-6 K-1.在室温到500℃衬底温度范围内脉冲激光沉积制备的Sc2W3O12薄膜均为非晶态,随着衬底温度的升高,薄膜表面光滑程度提高;随着沉积氧压强增大,表面平整性变差.非晶膜经1000℃退火处理7 min后得到斜方相Sc2W3O12多晶薄膜,在室温到600℃温度区间内,Sc2W3O12薄膜的平均热膨胀系数为-7.17×10-6 K-1.

关键词: 负热膨胀 , 薄膜 , 脉冲激光沉积 , 钨酸钪

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