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SiCp/ZL109复合材料中SiC的界面行为

隋贤栋 , 罗承萍 , 欧阳柳章 , 骆灼旋

复合材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-3851.2000.01.015

以常规TEM为工具,研究了SiCP/ZL109复合材料中数十个SiC颗粒及其界面,Si优先在SiC表面上形核、长大,形成界面Si,并形成大量SiC/Si界面.靠近SiC界面的Al基体中,普遍存在一层厚度小于1μm的"亚晶铝带",其内有大量位错.SiC与Al、SiC与Si之间虽然没有固定的晶体学位向关系,但是存在下列优先关系:(103)SiC//(111)Al,[110]SiC//[110]Al;(101)SiC//(111)Si;[110]SiC//[11]Si.

关键词: SiCP/ZL109复合材料 , SiC/Al界面 , SiC/Si界面 , 晶体学位向关系 , 界面Si , 亚晶铝带

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