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大理石表面壳聚糖/二氧化硅保护膜的制备及其性能

胡钢 , 滕飞 , 何海平

材料保护

为改善大理石在酸雨和酸雾环境下的耐蚀性能,运用仿生合成方法在大理石表面制备了一层壳聚:糖/二氧化硅(CS/SiO2)保护膜。通过扫描电子显微镜和红外光谱对膜的形貌结构进行了表征,并对膜的基本性质进行了测试。结果表明:CS/SiO2膜以球形颗粒沉积在大理石表面,保持了其原有的透气性,减小了其吸水性;膜的耐酸性能优越,显著提高了石材的耐酸性,大理石表面有无CS/SiO02,都具有良好的耐碱、盐腐蚀性能;膜与石材基体结合良好,具有良好的抗冻融和耐热性能。

关键词: 保护膜 , 仿生合成 , 壳聚糖(CS) , SiO2膜 , 大理石 , 耐酸碱盐性能 , 物理性能

用于水煤气变换的透氢膜反应器研究现状

何俊 , 段小勇 , 闫建平 , 李群艳 , 韦奇

材料导报

综述了以Pd膜和微孔SiO2膜透氢膜材料为膜反应器核心部件在水煤气变换制氢气中的应用研究.由于Pd膜和微孔SiO2膜对氢气有很好的选择性渗透,能够有效地提高膜反应器中的水煤气变换反应时CO的转化率.通过调整反应条件使得反应能够超过平衡转化率,在一定条件下CO甚至能够完全转化.

关键词: Pd膜 , 微孔 , SiO2膜 , 膜反应器 , 水煤气变换

包覆量对铝酸锶复合包覆效果的影响

侯志青 , 刘东州 , 康艳霜

表面技术

目的 对铝酸锶进行复合包覆处理,以提高荧光粉的抗水解性能.方法 采用液相水解法在铝酸锶表面包覆SiO2/Al2 O3膜,并对膜层进行耐水性、发光性能测试及形貌分析,研究包覆量对包覆效果的影响.结果 包覆量对包膜效果有着重要的影响.包覆量太低,荧光粉的耐水性能受到限制,很容易发生水解;包覆量太高,会影响荧光粉的发光性能,发光亮度降低.结论 要想得到包膜效果较好的产品,SiO2和AJ2O3占铝酸锶的质量百分比最好控制在5%左右.

关键词: 铝酸锶 , 复合包覆 , SiO2膜 , Al2O3膜

退火温度对镶嵌于SiO2膜中的Ge纳米晶结构的影响

张佳雯 , 高斐 , 晏春愉 , 孙杰 , 权乃承 , 刘伟 , 方晓玲

人工晶体学报

采用磁控溅射及退火的方法制备了含Ge纳米晶的SiO2复合膜,应用拉曼散射和X射线衍射技术研究不同退火温度下的Ge纳米晶结构.结果表明:Ge纳米晶的结晶温度约为750 ℃.运用声子限域模型(RWL model)对样品的拉曼散射光谱进行拟合,确定出样品中Ge纳米晶的尺寸.通过XRD谱计算复合膜的内部压应力,得出由其引起的拉曼峰位的蓝移量,得出结论:压应力是造成拉曼模拟曲线与实验曲线峰位偏离的主要原因.

关键词: Ge纳米晶 , 磁控溅射 , 退火 , SiO2膜 , 声子限域模型

等离子喷涂制备压电石英膜材料及性能分析

张剑 , 陈文革 , 王艳丽 , 赵姗姗 , 卓磊

兵器材料科学与工程 doi:10.3969/j.issn.1004-244X.2012.04.016

采用大气等离子喷涂技术制备SiO2膜压电材料,利用XRD和SEM研究其组织结构,同时对其介电常数ε、介电损耗tanδ、压电常数d33、机械品质因数Q等性能进行测试.结果表明:采用大气等离子喷涂工艺可制备出相结构主要由α-石英和α-方石英共同组成组织较为致密、缺陷较多的SiO2压电膜,压电常数d33和介电常数E,随膜厚度的增加而增加,介电损耗tanδ随膜厚度的增加而减小;介电常数ε1、介电损耗tanδ、机械品质因数Q随频率的增加而减小,当SiO2膜厚为5mm,压电常数d33最大值为2.3pC/N.

关键词: 等离子喷涂 , SiO2膜 , 压电材料 , 压电性能

镀膜浮法玻璃的风化性能

刁云超 , 姜妍彦 , 张庆瑜 , 刘楠 , 王承遇

材料科学与工程学报

采用人工加速风化的方法研究了镀有SiO2薄膜的浮法玻璃的风化性能,并与相同风化条件下的浮法玻璃原片的表面状态进行了比对,从风化机理上进行了分析。红外反射光谱和扫描电镜分析结果表明,镀有SiO2薄膜的浮法玻璃和未镀膜玻璃随着风化温度和风化时间的增加,均呈现风化现象逐渐加重的现象。但前者风化程度明显低于后者,尤其当风化条件(70℃,75%RH,风化15d)恶劣时,镀膜玻璃表面只出现了小块斑点和红外光谱的略微变化;而未镀膜玻璃表面则出现大面积的侵蚀斑块,在红外谱图上不仅≡Si—O—Si≡特征峰发生位移,而且出现了C?O的特征峰。说明SiO2膜层能够很好地阻挡玻璃表面Na+与空气中H+、H3O+的交换,有效地抑制玻璃表面风化的发生。

关键词: 风化 , SiO2膜 , 浮法玻璃 , 湿度

KH-570修饰的SiO_2膜制备及CH_4/CO_2的分离

李文秀 , 张兵 , 陈立峰 , 张冰 , 张志刚

功能材料

采用KH-570代替部分TEOS为前驱物,共水解缩聚反应制得疏水性SiO2膜,通过IR、DTG、SEM、接触角测试仪等手段对KH-570修饰后的SiO2膜进行表征,并对CH4和CO2渗透和分离进行研究。实验结果表明,修饰后(0.8KH-570)SiO2膜接触角达到94.2°,红外光谱分析表明修饰后SiO2膜疏水性增强;(0.8KH-570)SiO2膜具有完整性及在400℃水热稳定性;压差30kPa,分离因子随涂膜次数增加先增大后减小,涂膜5次达最大值2.13,超越了努森扩散理论分离因子1.66,此时分离效果好;对于涂膜5次的SiO2膜,CH4渗透通量随压差增加呈现非线性微增趋势,CH4/CO2分离因子几乎不变。

关键词: SiO2膜 , 接触角 , 疏水性 , 气体渗透 , 分离因子

气-液界面非担载SiO2无机膜的仿生制备

王一平 , 朱丽 , 李(韦华) , 郭翠梨

无机材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2002.01.031

利用有机大分子CTAB的自组装体为模板来调制正硅酸乙酯(TEOS)的水解缩聚,于气-液界面上制备出非担载的SiO2无机膜.对取膜时间进行了选择,考察了仿生制备SiO2膜过程中物料配比对成膜质量的影响,对其进行了优化.由CTAB极性头基排列而成的六边形区域聚集于溶液表面,TEOS在其内部的水解缩聚及随后的层层复制过程形成了仿生合成膜的空间网络结构.

关键词: 仿生合成 , SiO2膜 , 无机膜 , 复制

仿生制备非担载SiO2无机膜的实验研究

朱丽 , 王一平 , 胡彤宇 , 李(韦华)

无机材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2004.03.043

以正硅酸乙酯(TEOS)为硅源,十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)为有机模板,利用仿生合成技术于气-液界面制备出非担载的SiO2无机膜.考察了仿生制备SiO2膜过程中TEOS和CTAB的初始浓度及溶液pH值对膜质量的影响,并在优化所得物料条件下考察了干燥添加剂丙三醇和灼烧条件对膜质量的影响.各种分析和表征结果说明制备出的SiO2仿生膜具有1.8nm的最可几孔径,且上表面光滑平整.

关键词: 仿生合成 , SiO2膜 , 无机膜 , 复合材料

SiO2含量对绿色荧光粉包膜效果的影响

侯志青 , 刘东州 , 侯双印 , 刘丽芳 , 康艳霜 , 李志强

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2007.03.025

采用溶胶-凝胶法对绿色荧光粉铝酸锶进行了SiO2包膜处理,并对膜层进行了X射线衍射(XRD)、耐水性和发光性能的测试.结果表明:SiO2含量对包膜效果有着重要的影响.SiO2含量太低,其耐水性受到限制,很容易发生水解;SiO2含量太高,影响其发光性能,发光亮度降低.通过试验对比发现,要想得到包膜效果较好的产品,SiO2与铝酸锶的质量比最好控制在10%~25%之间.

关键词: 荧光粉 , 包膜 , SiO2膜

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