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低温 Hg 敏化光化学气相淀积 Si_3N_4薄膜

景俊海 , 孙青 , 付俊兴 , 孙建成

材料研究学报

用光-CVD 技术,在100—200℃的温度下,在Si 片上淀积出了Si_3N_4薄膜。本文研究了薄膜淀积速率与淀积参数的关系,讨论了淀积的Si_3N_4薄膜的物理性质、化学性质和力学性质。

关键词: 低温 , Hg sensitizing , photo-CVD , Si_3N_4 , films

SiC_(sf)/Si_3N_(4p)混杂增强BAS陶瓷基复合材料的制备及其结构与性能的研究

马静梅 , 叶枫 , 刘利盟 , 张海礁 , 于杰 , 孟庆昌 , 张新梅

稀有金属材料与工程

采用热压烧结方法制备出致密的SiC短纤维和Si_3N_4颗粒复合增强的BAS玻璃陶瓷基复合材料.利用XRD、SEM、TEM和3点弯曲等分析测试手段研究了物相组成、显微结构、界面结构及室温力学性能.结果表明,BAS能有效地促进复合材料的致密化和实现Si_3N_4的α→β相转变.复合材料中的BAS为六方相,SiC短纤维具有热压取向性,与BAS基体之间的界面结合紧密.SiC短纤维和Si_3N_4颗粒对BAS有较为显著的强韧化效果,复合材料的室温弯曲强度和断裂韧性为298 MPa和4.38 M Pa·m~(1/2),比纯六方BAS玻璃陶瓷分别提高了247%和143%.

关键词: SiC纤维 , Si_3N_4 , BAS玻璃陶瓷 , 显微结构 , 力学性能

Si_3N_4/Ni和Si_3N_4/Ni_3Al的界面固相反应

高建杰 , 汤文明 , 吴玉程 , 郑治祥

材料热处理学报

使用扫描电子显微镜、电子能谱仪、X射线衍射等研究了在N_2气氛中1150℃×10 h等温热处理的Si_3N_4/Ni,Si_3N_4/Ni_3Al平面偶界面固相反应区的形貌、成分分布、显微结构及相组成.结果表明:Si_3N_4/Ni界面固相反应形成约20 μm厚的反应区,反应区主要由Ni_3Si构成,其中分布着大量细密的孔洞;而Si_2N_4/Ni_3Al界面固相反应形成约2 μm厚的反应区,反应区具有比Ni_3Al高得多的Al含量,反应区由NiAl及Ni_3Si构成.Si_3N_4/Ni_3Al具有比Si_3N_4/Ni高得多的界面化学相容性.

关键词: Si_3N_4 , Ni_3Al , 界面固相反应 , 显微结构 , 相组成

YF_3助烧剂氮化硅的烧结及力学性能

滕甫 , 宁晓山 , 张洁 , 陈兆同

稀有金属材料与工程

以不同含量的YF_3和MgO作为烧结助剂,对Si_3N_4进行热压烧结,研究了烧结助剂含量对氮化硅陶瓷的相对密度、烧结反应、稀土元素分布以及硬度、强度和断裂韧性等力学性能的影响.实验结果表明,仅添加YF_3的样品生成了YSiON四元化合物,而同时添加MgO的样品生成MgYSiO四元化合物;样品的抗弯强度随YF_3和MgO添加量的增加而增加,最高可以达到959 Mpa;而硬度则随着YF3的增加从20 Gpa降低;添加2%YF_3(质量分数)氮化硅陶瓷的断裂韧性在(5.5~5.8)×10~5 Mpa·m~(1/2)之间,随MgO添加量变化不大.

关键词: Si_3N_4 , YF_3 , MgO , 热压烧结 , 力学性能

Fe_2(MoO_4)_3/Si_3N_4复合粉末还原过程中的微观组织结构

银锐明 , 范景莲 , 刘勋 , 张曙光

材料研究学报

观测Fe_2(MoO_4)_3和Fe_2(MoO_4)_3/Si_3N_4粉末H_2还原后的微结构特征,研究了其微观组织结构的演变.结果表明:Fe_2(M0oO_4)_3还原后转变为20 nm厚的Fe薄层包覆Mo颗粒的微结构;Fe_2(MoO_4)_3/Si_3N_4粉末被还原后转变为两种结构形式颗粒粉末,一种为3-5 nm的薄层Fe包覆在Mo颗粒表面粉末,一种为粘附有纳米Fe-Mo氮化物,Si、Mo等颗粒的Si_3N_4粉末.Fe_2(MoO_4)_3/Si_3N_4粉末还原后形成这种微结构的原因是,在还原过程中同时发生了两种反应:一种是Fe_2(MoO_4)_3自身发生分解还原反应,另一种是Fe_2(MoO_4)_3与Si_3N_4颗粒表面发生反应.

关键词: 无机非金属材料 , Si_3N_4 , Fe_2(MoO_4)_3 , 微结构 , 非均相沉淀-热还原

刚玉-氮化硅-碳化硅复合材料的性能研究

陈春霞 , 李勇 , 康华荣 , 夏文斌 , 岳月红

硅酸盐通报

以棕刚玉、氮化硅和碳化硅为原料在氧化气氛下制成试样.将试样分别在1500 ℃、1550 ℃和1600 ℃保温5 h进行埋炭处理.利用XRD、SEM和EDS等检测方法,结合热力学分析,研究了氧化气氛烧成后试样的物相变化以及高温埋炭条件下Si_3N_4的稳定性.结果表明:氧化气氛烧成后生成一种莫来石固溶体Si_6Al_(10)O_(21)N_4;高温埋炭处理后Si_3N_4和Si_6Al_(10)O_(21)N_4会部分转化为SiC,Si_3N_4向SiC明显转化的温度大于1500 ℃,Si_6Al_(10)O_(21)N_4向SiC明显转化的温度大于1550 ℃.

关键词: Si_3N_4 , SiC , 相转化

La-Y-Si_3N_4陶瓷的高温性能

罗学涛 , 张立同 , 周万城 , 成来飞 , 徐永东 , 吕杰

材料研究学报

研究了La-Y—Si3N4陶瓷的高温力学性能、氧化行为和抗热震性.结果表明,晶界玻璃相对高温性能有重要影响,在室温~1350℃的范围内,随温度升高,Si3N4的抗弯强度降低,断裂韧性增加;在1300~1350℃的温度范围内,Si3N4的氧化符合抛物线规律,氧化过程主要由晶界处添加剂离子和杂质离子的扩散过程控制,由于热应力导致裂纹的产生和扩展,使得热震后材料的性能降低

关键词: Si_3N_4 , null , null , null

用纳米非晶Si/N/C粉原位合成Si_3N_4晶须

李亚利 , 梁勇 , 高阳 , 肖克沈 , 郑丰 , 王亚庆 , 胡壮麒

材料研究学报

采用激光诱导有机硅烷气相合成的纳米非晶Si/N/C粉为原料,在1600℃,101.3kPaN2气下,在石墨感应炉中原位制备出α-Si3N4晶须,其直径为0.1-0.5μm,长可达几毫米,纯度较高,无过剩碳及金属杂质

关键词: Si_3N_4 , whiskers , nano-powder , amorphous , Si/N/C

无压烧结Si_3N_4与表面镀钛膜之间的固态化学反应过程

冼爱平 , 斯重遥

金属学报

用X射线衍射技术研究了在Si_3N_4陶瓷与表面镀钛膜之间的固态化学反应过程,当反应温度不超过973K时,Ti与Si_3N_4之间不反应;温度在1073—1123K时,反应产物为Ti_2N和Ti_5Si_3,温度达到1173K时,反应产物为TiN和Ti_5Si_4,温度达到1273K时,反应产物为TiN和Ti_5Si_4。在整个反应过程中,Si_3N_4陶瓷基体相的晶格常数未发生变化,说明Ti原子不能溶入Si_3N_4陶瓷的晶格之中。

关键词: , Si_3N_4 , interface , solid reaction

纳米非晶Si_3N_4粉的超高压低温烧结

李亚利 , 梁勇 , 佟百运 , 郑丰 , 马贤峰 , 崔硕景 , 赵伟

材料研究学报

用六面顶超高压在1.0-5.0GPa,25~1500℃条件下烧结激光法制备的纳米非晶Si3N4粉,有“冷烧结”特代表现为:在5GPa,室温下压制的块体密度达理论值的93%,这是高压下纳米粒子产生流变的结果当烧结温度较低(800~950℃)时,高压烧结体为棕色透明的致密(98%)纳米非晶块体;烧结温度较高(1300~1500℃)时,形成纯白色致密纳米晶Si3N4块体,硬度为15.53~1605GPa研究表明,超高压烧结纳米陶瓷粉可显著降低烧结温度,控制晶粒生长,是获得致密纳米材料的有效途径

关键词: 纳米陶瓷 , null , null , null , null

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