喻利花
,
薛安俊
,
董松涛
,
许俊华
材料热处理学报
采用多靶反应磁控溅射技术制备了一系列不同Si含量的Ti-Al-Si-N复合膜.采用能谱仪、X射线衍射仪、三维轮廓仪、原子力显微镜和显微硬度仪对薄膜进行表征,研究了Si含量对Ti-Al-Si-N复合膜微结构和力学性能的影响.结果表明:用Ti0.33Al0.67合金靶制备的Ti-Al-N复合膜呈双相共存结构(fcc+hcp),Si的加入,促进了六方相的生长,细化了晶粒,降低了表面粗糙度.随着Si含量的增加,Ti-Al-Si-N复合膜的硬度逐渐增大,在Si含量为16.69 at%时,达到最大硬度32.3 GPa,继续增加Si含量,薄膜硬度降低.
关键词:
Ti-Al-Si-N
,
磁控溅射
,
微结构
,
显微硬度
