王少卿
,
陈响明
,
杜勇
,
王社权
硬质合金
doi:10.3969/j.issn.1003-7292.2013.12.001
本文通过Thermo-Calc相图热力学计算软件建立了包含亚稳Fcc-Ti1-xAlxN相的Ti-Al-N三元体系的热力学模型,并对Ti1-xAlxN涂层的LPCVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition)过程进行了计算模拟.研究了AlCl3,NH3和H2等反应气体成分变化对涂层中的Al含量的影响,理论预测结果与文献报道的实验结果吻合良好.利用计算模拟手段探究了富Al-Ti1-xAlxN涂层的沉积过程,并预测了富Al-Ti1-xAlxN涂层中的Al含量随反应气体成分以及沉积温度改变的变化情况.发现适当增加AlCl3、NH3/H2值及沉积温度均可提高涂层中的Al含量.
关键词:
CVD
,
Ti1-xAlxN涂层
,
热力学计算
