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基片偏压对磁控溅射制备TiB2涂层结构及性能的影响

谷文翠 , 李寿德 , 王怀勇 , 陈春立 , 李朋 , 黄峰

航空材料学报 doi:10.11868/j.issn.1005-5053.2014.5.006

为了提高TiB2涂层的致密性,采用磁控溅射技术,通过改变基片偏压,获得了floating,-30V,-90V三种偏压状态的涂层.利用XRD,SEM、纳米压痕仪、Vickers显微硬度仪和摩擦磨损试验机对涂层的结构和性能进行了分析.结果表明:所有制备涂层只存在六方结构TiB2相,偏压为floating状态时制备的涂层表现出疏松的柱状生长结构,硬度为15GPa.随偏压增大,涂层柱状结构变致密甚至消失,硬度和耐磨损性能都得到提高.偏压-30V提高到-90V,相对于floating状态制备的涂层,晶粒尺寸增加了一倍,达到21nm;柱状结构变致密最终消除;硬度从35.5GPa提高到61.9GPa,实现了超硬;同时耐磨损性能提高,使用摩擦副为直径6mm的Al2O3球进行干摩擦实验时,-90V制备的涂层磨损率为5.6×10-16m3/Nm,相对于-30V涂层降低了一个数量级.

关键词: TiB2涂层 , 磁控溅射 , 偏压 , 摩擦磨损

射频磁控溅射法制备TiB2涂层及其性能分析

孙荣幸 , 张同俊 , 戴伟 , 李松

材料科学与工程学报 doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2006.02.021

利用射频磁控溅射技术在硅和钢片上沉积了TiB2涂层.采用场发射电子扫描显微镜(FESEM),小掠射角x射线衍射(GAXRD)及X射线光电子能谱(XPS)分别研究了涂层的横截面形貌,晶体结构以及涂层中的元素和化学状态.同时,对涂层的显微硬度和残余应力进行了表征.结果表明, 利用射频磁控溅射法制备的TiB2涂层平整光滑,结构致密,沿[001]晶向择优生长,具有纳米晶结构,硬度显著提高,而且残余压应力较低.

关键词: 射频磁控溅射 , TiB2涂层 , GAXRD , 残余应力

300 kA大型电解槽阴极新材料的应用

任必军 , 石忠宁 , 班允刚 , 王兆文

材料与冶金学报 doi:10.3969/j.issn.1671-6620.2006.04.006

对我国伊川电解铝厂300 kA大型预焙槽进行大修时,采用了不同石墨质的碳阴极、振动成型TiB2涂层阴极和刷涂TiB2涂层阴极等新材料,通过研究电解槽启动后一段时间内不同阴极材料的炉底电压降、电阻随时间的变化关系和铝液中Ti含量的变化规律等,寻找综合性能较佳的阴极材料,使其可达到降低炉底压降,形成完好的炉帮,从而有效地提高槽寿命的目的.研究发现TiB2质量分数为30%的振动成型阴极碳块的阴极电压降和铝中Ti的质量分数均较低,分别为261mV和0.002 5%;认为采用全石墨化阴极和振动成型硼化钛涂层阴极可以节省电能降耗.

关键词: 铝电解槽 , 阴极 , TiB2涂层 , 新材料

TiB2和Ti-B-N涂层的性能对比研究

孙荣幸 , 张同俊 , 戴伟 , 李松

材料工程 doi:10.3969/j.issn.1001-4381.2006.04.010

用磁控溅射法在1Cr18Ni9Ti不锈钢上沉积了TiB2和Ti-B-N涂层.用场发射电子扫描显微镜(FESEM)和小掠射角X射线衍射(GAXRD)研究了涂层的结构与形貌,并对涂层的显微硬度进行了检测分析.研究表明:通入N2后,Ti-B-N涂层变得更为光滑平整,涂层结构由纳米柱状晶转为非晶结构,显微硬度降低.在室温无润滑条件下,检测了涂层的耐磨性能,结果表明Ti-B-N涂层的摩擦系数低于TiB2涂层,但涂层的耐磨性并没有得到提高.

关键词: 磁控溅射 , TiB2涂层 , Ti-B-N涂层 , 显微硬度 , 耐磨性

磁控溅射法制备TiB2涂层的研究进展

孙彩云 , 何庆兵 , 李立 , 张隆平 , 吴护林

材料导报

TiB2熔点高、硬度高、密度低、电阻率低、高温下化学稳定性好,是一种应用潜力巨大的涂层材料.磁控溅射法是一种重要的制备TiB2涂层的物理气相沉积方法,具有沉积温度低、基体可选择范围大的优点.分析和总结了偏压大小与极性、基体温度和气压等工艺参数对涂层沉积速率、显微结构(包括形貌、结晶度、织构和晶粒尺寸等)、性能(包括硬度、弹性模量、结合强度和摩擦学性能)和残余应力的影响,并概括了目前降低残余应力的途径.

关键词: TiB2涂层 , 磁控溅射法 , 性能 , 残余应力

SCS-6 SiC/TiB2/Ti2AlNb复合材料界面反应及机理

朱艳 , 杨延清 , 马志军 , 陈彦

金属学报 doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2002.z1.152

利用透射电镜对SCS-6 SiC/TiB2/Ti2AlNb复合材料的界面反应进行了观察,并运用量子化学计算理论及有关热力学模型,计算了SCS-6 SiC/TiB2/Ti2AlNb复合材料界面反应的Gibbs函数变值△rG,据此对实验结果进行了讨论与分析.研究表明,TiB2可有效地阻止元素扩散与反应,但在高温长时间热暴露后,TiB2层消耗殆尽形成TiB.SCS-6 SiC的C涂层与基体Ti2AlNb中元素反应形成不同的碳化物与硅化物.研究结果还表明,化学计量比的TiB2要比富B的TiB2更加稳定,因此作为界面障碍涂层更为有利.

关键词: 钛基复合材料 , SiC纤维 , 界面反应 , TiB2涂层 , 热力学

等离子喷涂铝电解可湿润TiB2阴极涂层研究进展

彭如振 , 李荣兴 , 俞小花 , 侯彦青 , 谢刚

表面技术 doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2016.04.020

铝电解工业越来越多的采用石墨阴极,石墨阴极具有良好的导电性能,但石墨不被铝液湿润且和铝液形成Al4 C3,导致铝电解槽运行寿命短.可湿润TiB2涂层阴极因节能和延长槽寿命能够给铝电解工业带来显著效益.等离子喷涂是一种高效、灵活的沉积涂层的方法 ,能够在形状复杂或大表面积的基体上沉积金属间化合物、陶瓷或复合材料,涂层厚度可从数微米到数毫米.等离子喷涂制备可湿润性TiB2涂层阴极是可行有效的方法 ,本文评述了等离子喷涂制备可湿润TiB2阴极涂层的研究进展,简述了等离子喷涂工艺受到的影响因素(包括粉末性质、基体表面形貌和焰流性质)和涂层与基体材料结合的机制(包括机械结合、冶金结合和物理结合),分析和讨论了TiB2粉末制备、基体预处理、等离子喷涂工艺参数、涂层显微结构和性能等.最后,指出了等离子喷涂制备可湿润性TiB2涂层阴极工艺将来研究需要解决的几个关键问题.

关键词: 等离子喷涂 , 可湿润阴极 , TiB2涂层 , 结合机制 , 氧化 , 导电性

化学气相沉积法制备TiB2涂层工艺的研究

孙彩云 , 何庆兵 , 李立 , 张隆平 , 易同斌 , 吴护林

表面技术

以TiCl4-BCl3-H2为反应体系,采用化学气相沉积技术,在低碳钢和石墨表面成功沉积了TiB2涂层,并研究了沉积温度、气体流量和基体类型对涂层显微结构和显微硬度的影响.结果表明:沉积温度较高时,低碳钢表面的TiB2涂层晶粒取向随机,结晶度较好,沉积温度较低时则呈柱状晶,晶粒取向随机时的显微硬度高于呈柱状晶时的显微硬度;基体类型对涂层沉积速率的影响显著,在980℃,BCl3流量100 mL/min的条件下沉积1h,低碳钢表面的涂层厚度为20μm,而石墨表面的涂层厚度为44~ 70 μm.

关键词: TiB2涂层 , 显微结构 , 沉积速率

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