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Ti_3X相析出的电子浓度规律

万晓景 , 经开良 , 史文 , 尤杰 , 张丙

材料研究学报

在过去工作的基础上,进一步研究了Ti-Al-Ge,Ti-Al-In,Ti-Al-Hf 及了Ti-Al-Ta 四个三元系中Ti_3X 相析出的电子浓度规律。实验结果表明,在含Ge,In,Hf 及Ta 的Ti-Al 固溶体中,Ti_3X 相的形成仍遵循电子浓度规律,其特征电子浓度(?)=ΣNf_i=2.12。参与合金化的价电子是由合金元素的电子结构决定的,对于非过渡元素In,Ge 的价电子数为s+p 电子,即N_(In)=3(s~2p~1),N_(Ge)e=4(s~2p~2),而过渡族元素Hf 及Ta 的价电子数是2,即N_(Hf)=N_(Ta)=2。

关键词: Ti_3X相 , electron concentration rule , characteristic electron concentration

稀土Nd在Ti合金中的存在形态及其对Ti_3X相析出的影响

万晓景 , 经开良 , 史文 , 张丙 , 李东 , 杨锐

材料研究学报

用透射电镜,X 射线衍射技术研究了Ti-Al-Nd 合金中稀土Nd 的存在形态及其对Ti_3X 析出的影响。结果表明,Nd 主要以脱氧产物Nd_2O_3的颗粒弥散分布于基体中,颗粒尺寸约为100-200nm,Nd_2O_3为bcc 结构。稀土Nd 对合金的强化作用主要是Nd_2O_3颗粒与位错作用引起的强化及Nd_2O_3周围形成的位错亚结构的强化。Nd 对Ti_3X 相析出有较好的抑制作用,其机理是稀土Nd 的脱氧反应促使基体中氧的贫化,从而降低了合金的平均电子浓度所致。

关键词: 稀土Nd , Ti_3X phase , particles strengthening

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