万晓景
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经开良
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史文
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尤杰
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张丙
材料研究学报
在过去工作的基础上,进一步研究了Ti-Al-Ge,Ti-Al-In,Ti-Al-Hf 及了Ti-Al-Ta 四个三元系中Ti_3X 相析出的电子浓度规律。实验结果表明,在含Ge,In,Hf 及Ta 的Ti-Al 固溶体中,Ti_3X 相的形成仍遵循电子浓度规律,其特征电子浓度(?)=ΣNf_i=2.12。参与合金化的价电子是由合金元素的电子结构决定的,对于非过渡元素In,Ge 的价电子数为s+p 电子,即N_(In)=3(s~2p~1),N_(Ge)e=4(s~2p~2),而过渡族元素Hf 及Ta 的价电子数是2,即N_(Hf)=N_(Ta)=2。
关键词:
Ti_3X相
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electron concentration rule
,
characteristic electron concentration
万晓景
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经开良
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史文
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张丙
,
李东
,
杨锐
材料研究学报
用透射电镜,X 射线衍射技术研究了Ti-Al-Nd 合金中稀土Nd 的存在形态及其对Ti_3X 析出的影响。结果表明,Nd 主要以脱氧产物Nd_2O_3的颗粒弥散分布于基体中,颗粒尺寸约为100-200nm,Nd_2O_3为bcc 结构。稀土Nd 对合金的强化作用主要是Nd_2O_3颗粒与位错作用引起的强化及Nd_2O_3周围形成的位错亚结构的强化。Nd 对Ti_3X 相析出有较好的抑制作用,其机理是稀土Nd 的脱氧反应促使基体中氧的贫化,从而降低了合金的平均电子浓度所致。
关键词:
稀土Nd
,
Ti_3X phase
,
particles strengthening