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用MPCVD法在WC-Co刀具上沉积金刚石薄膜

余卫华 , 周健 , 王念 , 李力 , 刘桂珍

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2001.03.003

研究了硬质合金基体的预处理对金刚石沉积的影响,并确定了用MPCVD法在WC-Co刀具 上沉积金刚石薄膜的工艺参数。采用了一些提高成核密度和沉积速率的方法,用SEM、XRD和 Raman对金刚石薄膜的性质进行了分析。结果表明,合适的预处理可以有效的抑制钴的溢出并提 高薄膜的质量。

关键词: 金刚石薄膜 , WC-Co刀具 , 微波等离子体 , 基体预处理

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