安云玲
,
常明
功能材料
金刚石是一种集多种优良性能于一体的功能材料,但是,金刚石薄膜sp~3碳构造的高稳定性导致其表面活性不足,无法满足各种功能性表面的需要.本文从化学修饰角度,概括和总结了氨基在金刚石薄膜表面导入的一种新的简单方法,并对修饰后的金刚石表面进行了XPS表征.结果表明,氨基已成功的修饰到了金刚石薄膜表面.最后对氨基修饰后的金刚石薄膜的应用做了简单的介绍.
关键词:
金刚石薄膜
,
化学修饰
,
氨基
,
X射线光电子能谱(XPS)
,
应用
丁艳梅
,
许淳淳
腐蚀学报（英文）
doi:10.3969/j.issn.1002-6495.2006.04.002
采用乌洛脱品和胺类缓蚀剂A制成一种新的气相缓蚀剂,用模拟大气腐蚀状态的薄液膜电化学测试技术研究了复合气相缓蚀剂对铸铁试样电化学行为的影响.并通过X射线衍射(XRD)和X射线光电子能谱(XPS)分析了复合气相缓蚀剂作用于模拟带锈文物所形成的锈层结构,并探讨了其缓蚀机理.结果表明,该复合气相缓蚀剂是一种阳极型的气相缓蚀剂,对模拟带锈文物有很好的缓蚀效果,该缓蚀剂可以促进铁质文物中的不稳定锈层向稳定锈层转化,抑制基体腐蚀的进一步扩展,对铁质文物具有很好的保护作用.
关键词:
模拟铁质文物
,
气相缓蚀剂
,
薄液膜极化曲线
,
XRD
,
X射线光电子能谱(XPS)
仲敬荣
,
余春荣
,
邓辉
,
任一鸣
稀有金属材料与工程
分别采用显微激光拉曼光谱(micro-laser Raman spectroscopy,MLRS)、X射线光电子能谱(X-ray photoelectron spectroscopy,XPS)、称重及形貌观察等手段,开展了UF4在空气中的热化学反应实验,研究不同温度时效UF4质量、颜色及失重情况,获取反应前后不同铀化合物的Raman和XPS特征图谱.结果表明,UF4在空气中加热至200℃时,性质稳定,其拉曼光谱图基本无变化;但在250℃以上,样品表面颜色发生明显变化,Raman和XPS分析发现有UO2、UO2F2、U3O8等多种铀化合物生成;随着温度升高,UF4在空气中的化学反应速率呈现由快到慢的变化趋势.
关键词:
UF4
,
拉曼光谱(Raman)
,
X射线光电子能谱(XPS)
,
化学反应
,
空气
李庚伟
,
吴正龙
,
邵素珍
,
刘志凯
材料科学与工艺
doi:10.3969/j.issn.1005-0299.2008.02.027
为了探究ZnO/Si内部化学成分及有关信息,用氧离子束辅助(O+-assisted)脉冲激光淀积(PLD)法在不同实验条件下生长成ZnO/Si(111)样品.利用X射线光电子能谱(XPS)对长成的ZnO/Si异质结构进行了异位测试.通过对O1s峰及其肩状结构进行拟合、分析,得到了原子数密度比n(O):n(Zn),进而探究了原子数密度比与生长质量的关系.结果表明,用氧离子束辅助PLD法,可在较低的衬底温度190℃和适当O+束流条件下,生长出正化学比接近于1,且c轴单一取向最佳的ZnO/Si薄膜.用氧离子束辅助PLD淀积法生长ZnO薄膜,可以改善缺氧状况,能提供一个富氧环境.
关键词:
ZnO/Si异质结构
,
氧离子束辅助PLD
,
X射线光电子能谱(XPS)
欧谷平
,
宋珍
,
桂文明
,
齐丙丽
,
王方聪
,
张福甲
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2006.02.010
利用AFM对CuPc/ITO样品表面进行扫描,发现其生长较均匀,基本上覆盖了ITO表面的缺陷,且针孔较少.通过样品表面和界面的XPS谱图分析,进一步证实了这一结果,同时发现,CuPc可以抑制ITO中的化学组分向空穴传输层的扩散.有利于器件的性能的改善和寿命的提高.
关键词:
缓冲层CuPc
,
原子力显微镜(AFM)
,
X射线光电子能谱(XPS)
卢红亮
,
徐敏
,
丁士进
,
任杰
,
张卫
无机材料学报
doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2006.05.031
以Al(CH3)3和H2O为反应源,在270℃下用原子层淀积(ALD)技术在Si衬底上生长了Al2O3薄膜.采用X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、原子力显微镜(AFM)和傅立叶变换红外光谱(FTIR)等分析手段对Al2O3薄膜的热稳定性进行了研究.结果表明刚淀积的薄膜中含有少量Al-OH基团,高温退火后,Al-OH基团几乎消失,这归因于Al-OH基团之间发生反应而脱水.退火后的薄膜中O和Al元素的相对比例(1.52)比退火前的(1.57)更接近化学计量比的Al2O3.FTIR分析表明,在刚淀积的Al2O3中有少量的-CH3存在,-CH3含量会随热处理温度的升高而减少.此外,在高温快速热退火后,Al2O3薄膜的表面平均粗糙度(RMS)明显改善,900℃热退火后其RMS达到1.15nm.
关键词:
Al2O3薄膜
,
原子层淀积(ALD)
,
X射线光电子能谱(XPS)
卢朝靖
,
王世敏
,
邝安祥
,
黄桂玉
,
王龙海
,
王典芬
材料研究学报
采用XPS方法研究了sol-gel工艺制备的KTN(x=0.35)薄膜的成分和结构.结果表明,除了表面被碳污染外,薄膜中无残余的碳和其他杂质.其成分与原料的化学计量比相近,且沿深度均匀分布.各元素的化学状态证实薄膜系钙钛矿型KTN结构.Ar+溅射后的XPS谱反映K严重偏低,Ta和Nb的化学状态改变,是Ar+轰击引起K择优溅射及化合物分解所致.
关键词:
钽铌酸钾(KTN)薄膜
,
valence state. XPS
,
sol-gel
,
KTN thin film. Ar~+ sputtering
