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Ti/IrO_2-Ta_2O_5氧化物阳极涂层厚度的X射线荧光法测定

张惠 , 许立坤 , 侯文涛 , 辛永磊 , 王均涛

材料保护

常规的光学显微镜和扫描电镜(SEM)检测为破坏性检测,且测量时间长,不便于现场应用于涂层厚度的测量.为此,制备了X射线荧光法(XRF)测量Ti/IrO_2-Ta_2O_5涂层厚度所需的校正标样,采用XRF测量了涂层的厚度,并与SEM测量的涂层厚度进行比较.结果表明:标样的涂层厚度和组分分布均匀;XRF测试中发射法比吸收法的灵敏度高,偏差小;XRF的测量结果与SEM的相近,偏差小,可靠度高.

关键词: X射线荧光 , IrO_2 , Ta_2O_5 , 氧化物阳极 , 厚度测量

X射线荧光光谱法测定氧化铝中杂质含量

罗湘宁 , 李友元 , 吴志华

冶金分析 doi:10.3969/j.issn.1000-7571.2003.05.013

对X射线荧光光谱测定氧化铝中杂质元素的方法进行了研究.利用系列标准样品制作工作曲线,采用混合熔剂四硼酸锂加偏硼酸锂(12+22)熔融制样法分析了SiO2,Fe2O3,Na2O,制备熔片的稀释比为1∶3;直接压片制样法分析了TiO2,V2O5,P2O5,ZnO.SiO2,Fe2O3,Na2O,TiO2,V2O5,P2O5,ZnO测定结果的RSD分别为2.61%,2.61%,2.33%,4.62%,8.24%,8.00%和1.79%.该方法用于氧化铝生产控制及产品分析,数据准确、可靠,结果令人满意.

关键词: X射线荧光 , 压片 , 熔融 , 氧化铝 , 杂质

X射线荧光痕量元素分析的测定限问题

梁国立 , 邓赛文 , 吴晓军 , 甘露

物理测试 doi:10.3969/j.issn.1001-0777.2003.06.002

就有关X射线荧光低含量元素分析的检出限问题进行了多方面的探讨.从检出限的定义及其定义下的相对标准偏差到各种不同测量、校准与校正方法的检出限及其相对应的相对标准偏差进行计算.提出了以定义检出限的相对标准偏差为基准,对各种测量方法计算出的检出限进行重新界定,从而确认一个具有可比性的、精度一致的检出限.同时还讨论了仪器与X光管固有杂质元素谱线对该元素检出限的影响;测量仪器、测量条件与测量时间对检出限的影响;不同种类试样对检出限的影响;检出限与测定限等问题.

关键词: X射线荧光 , 检出限 , 相对标准偏差

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