李佳伟
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朱世富
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赵北君
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何知宇
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陈宝军
稀有金属
采用改进的布里奇曼法生长出尺寸为Φ15 mm×45 mm,外观完整无开裂的CdGeAs2单晶体.为了提高器件的使用性能,需要对晶体进行表面处理,主要对CdGeAs2晶片表面的抛光技术进行了研究.通过对解理面切割分析得到(101)晶面,机械抛光后进行了XPS分析.对该晶面采用溴甲醇溶液进行腐蚀抛光,采用XRD回摆及光学显微镜对不同抛光时间的试样进行观测.结果表明,CGA晶体的(101)晶面在常温下采用溴甲醇溶液腐蚀50 s后,晶片表面光滑无划痕,并且具有半峰宽较小的回摆曲线,同时计算得到CdGeAs2晶体的表面损伤层厚度.
关键词:
非线性材料
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CdGeAs2
,
XPS
,
XRD回摆曲线
,
表面损伤层
