杨登辉
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赵北君
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朱世富
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陈宝军
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何知宇
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曹礼强
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陈成
人工晶体学报
研究报道了坩埚下降法自发成核生长的ZnGeP2(ZGP)晶体光学器件定向加工新方法.即首先结合晶体的易解理面((112)面、(101)面)和标准极图以及X射线衍射仪,快速寻找c轴方向,确定晶体的(001)面;再由相位匹配角、方位角以及(101)和(102)晶面确定ZGP晶体的通光面,定向切割加工得到ZGP光参量振荡(OPO)器件初坯,经X射线衍射仪修正角度和后续抛光镀膜处理,制备出11 mm×11 mm×22 mm的ZGP-OPO器件.采用2.1μm、7 kHz激光泵浦ZGP-OPO,实现了3～5 μm中红外调谐激光输出,功率达0.48 W.此方法不仅适用于ZGP晶体的定向加工,也适用于具有类似结构的其他晶体器件定向加工.
关键词:
磷锗锌
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相位匹配
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定向加工
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标准极图
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X射线衍射谱
李晓东
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袁望治
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赵振杰
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阮建中
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杨燮龙
功能材料
研究了纳米晶态下Fe73.5Cu1Nb3Si13.5B9多层膜的巨磁阻抗(GMI)效应.研究结果表明纵向巨磁阻抗(LMI)效应在3MHz时取得最大值为44%,横向巨磁阻抗(TMI)效应在6MHz时取得最大值为46%.LMI与TMI随外磁场有不同的变化行为,TMI曲线具有阈值行为,超过阈值磁场后出现明显的磁阻抗效应.晶化后出现最大值阻抗效应所对应的频率下降,由非晶态下的13MHz下降为晶化后的3MHz.薄膜样品的磁阻抗效应与样品中磁矩的空间分布密切相关,磁矩垂直面向分布时,磁阻抗效应下降为5%
关键词:
X射线衍射谱
,
M(o)ssbauer谱
,
巨磁阻抗效应
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Fe73.5Cu1Nb3Si13.5B9薄膜
吴向清
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谢发勤
材料保护
doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2003.01.006
利用X射线衍射技术,分析了Ni-SiC复合镀层的微观结构,同时对镀层的耐磨性能进行了研究.结果表明:(1)Ni-SiC复合镀层的结构为晶态,SiC微粒的嵌入不改变其组织结构,经过500 ℃,2 h热处理后,产生新相Ni3Si,使镀层性能下降.(2) 在300 ℃,2 h热处理条件下,Ni-SiC复合镀层体积比磨损量分别是硬Cr镀层和纯Ni镀层的31%和11.6%.
关键词:
电沉积
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Ni-SiC复合镀层
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X射线衍射谱
,
耐磨性
