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磁控溅射和退火制备ZnO/Si02复合薄膜

程晓蕾 , 刘志 , 施焕儒 , 简建明 , 徐杨

材料热处理学报

采用射频磁控溅射和退火处理的方法在单晶硅衬底上制备了ZnO/SiO:复合薄膜,利用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、能谱分析(EDS)和接触角测量等测试手段研究溅射气压、溅射功率、氧氩比和退火温度等对复合薄膜成分组成、组织结构及润湿性能的影响。研究表明,复合薄膜中主要有ZnO、SiO:、Zn:SiO。3种物相,且分别以六方纤锌矿结构、无定形态和硅锌矿型等形式存在。随着溅射和退火工艺的改变,复合薄膜的接触角在41°~146°问变化,组织形态由颗粒状向纳米竹叶状变化。溅射气压0.5Pa,溅射功率120W,氧氩比(O2:Ar)为0:30,退火温度为700℃的条件下获得具有六方纤锌矿结构的ZnO纳米组织,该组织呈现出竹叶状,在薄膜表面交错排列形成了无序多空隙的微观形貌,使复合薄膜具有超疏水性,接触角为146°。

关键词: 磁控溅射 , 退火 , ZnO/SiO2 , 复合薄膜 , 润湿性

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