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利用直流磁控溅射法在柔性衬底上制备ZnO: Zr新型透明导电薄膜

张化福 , 类成新 , 刘汉法 , 袁长坤

人工晶体学报

室温下利用直流磁控溅射法在有ZnO缓冲层的柔性衬底 PET上制备出了可见光透过率高、电阻率低的掺锆氧化锌(ZnO: Zr)透明导电薄膜,研究了厚度对ZnO: Zr薄膜结构及光电性能的影响.结果表明,ZnO: Zr薄膜为六方纤锌矿结构的多晶薄膜.实验获得ZnO: Zr薄膜的最小电阻率为2.4×10-3 Ω·cm,其霍尔迁移率为18.9 cm2·V-1·s-1 ,载流子浓度为2.3×1020 cm-3.实验制备的ZnO: Zr薄膜具有良好的附着性能,其可见光平均透过率超过92%.

关键词: ZnO∶Zr薄膜 , 柔性衬底 , 直流磁控溅射 , 透明导电薄膜

透明导电薄膜ZnO∶Zr的制备及特性研究

张化福 , 类成新 , 刘汉法 , 袁长坤

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2009.01.013

利用直流磁控溅射法在玻璃衬底上制备出了可见光透过率高、电阻率低的ZnO∶Zr(ZZO)透明导电薄膜.讨论了溅射功率对ZZO薄膜结构、形貌及光电性能的影响.研究结果表明,溅射功率对ZZO薄膜的结构和电学性能有很大影响.实验制备的ZZO薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有垂直于衬底方向的c轴择优取向.在溅射功率为115 W时,ZZO薄膜的电阻率具有最小值1.9×10-3 Ω*cm,其霍尔迁移率和载流子浓度分别为18.7 cm2*V-1*s-1和2.07×1020 cm-3.所制备ZZO薄膜样品具有良好的附着性能,其可见光区平均透过率均超过92%.

关键词: ZnO∶Zr薄膜 , 透明导电薄膜 , 溅射功率 , 磁控溅射

利用射频磁控溅射法在柔性衬底上制备ZnO∶Zr透明导电薄膜

刘汉法 , 张化福 , 类成新 , 袁玉珍 , 袁长坤

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2009.02.006

利用射频磁控溅射法首次在室温水冷柔性衬底 PET上制备出了可见光透过率高、电阻率低的掺锆氧化锌(ZnO∶Zr)透明导电薄膜.X射线衍射和扫描电子显微镜表明,ZnO∶Zr薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有平行于衬底方向的择优取向.实验获得ZnO∶Zr薄膜的最小电阻率为1.55×10-3 Ω·cm.实验制备的ZnO∶Zr薄膜具有良好的附着性能,其可见光区平均透过率超过90%.

关键词: ZnO∶Zr薄膜 , 柔性衬底 , 磁控溅射 , 透明导电薄膜

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