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掺杂比和氧分压对脉冲激光沉积ZnO:Al膜性能影响的研究

葛水兵 , 程珊华 , 宁兆元 , 沈明荣

材料科学与工艺 doi:10.3969/j.issn.1005-0299.2000.02.022

利用脉冲激光法制备了ZnO:Al 透明导电膜.通过对膜进行霍尔系数测量及SEM、XRD测试分析,详细研究了靶材中的化学配比(掺杂比)对膜的透射比和电阻率的影响.结果表明:掺杂比、氧分压强影响着膜的电学、光学性能和膜的结晶状况.从电学分析看出:掺杂比从0. 75%增至1.5%过程中,膜的载流子浓度、透射比(在波长大于500 nm的范围)和光隙能相应增大.在氧分压强为0 Pa、掺杂比为1.5%左右时沉积的膜,其电阻率达到最小,其值为7.1 ×10-4Ω·cm,且在可见光区其透射比超过了90%.

关键词: 脉冲激光沉积 , ZnO膜 , 掺杂比 , 氧分压

ZnO:Al透明导电膜的制备及其性能的研究

葛水兵 , 程珊华 , 宁兆元

材料科学与工程学报 doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2000.03.019

利用脉冲激光法制备了ZnO:Al透明导电膜.通过对膜进行霍尔系数测量及SEM、XRD测试分析,详细研究了靶材中的化学配比(掺杂比)对膜的透光率和电阻率的影响.结果表明:掺杂比、氧分压强影响着膜的电学、光学性能和膜的结晶状况.从电学分析看出:掺杂比从0.75%增至1.5%过程中,膜的载流子浓度、透光率(在波长大于500nm的范围)和光隙能相应增大.在氧分压强为0Pa(不充氧)、掺杂比为1.5%左右时沉积的膜,其电阻率达到最小,其值为7.1×10-4Ωcm,且在可见光区其透光率超过了90%.

关键词: 脉冲激光沉积 , ZnO膜 , 掺杂比 , 氧分压强

掺杂比对脉冲激光沉积的ZnO:Al膜性能的影响

葛水兵 , 程珊华 , 宁兆元 , 沈明荣 , 甘肇强 , 周咏东 , 褚君浩

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2000.01.010

用脉冲激光法制备了ZnO:Al透明导电膜.通过对膜的霍尔系数测量及SEM、XRD分析,详细研究了靶材中的化学配比(掺杂比)对膜的透光率和电阻率的影响.结果表明:掺杂比影响着膜的电学、光学性能和膜的结晶状况.掺杂比从0.75%增至1.5%,膜的载流子浓度、透光率( 波长大于500nm)和光隙能相应增大.在掺杂比为1.5%左右时沉积的膜的电阻率达到最小,其值为7.1×10-4Ωcm,且在可见光区其透光率超过了90%.

关键词: 脉冲激光沉积 , ZnO膜 , 掺杂比

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