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磁控溅射温度与时间对ZrN薄膜附着力的影响

孙维连 , 李颖 , 赵亚玲 , 王会强 , 孙铂 , 李新领

材料热处理学报

采用非平衡磁控溅射技术在1Cr18Ni9Ti不锈钢上制备了ZrN薄膜。用SEM、EDS观察并分析了薄膜的表面形貌和成分,用光电轮廓仪测量了膜层厚度。并采用划格法测试不同溅射时间和温度制备的薄膜附着力大小。分析不同溅射时间和温度对薄膜附着力的影响规律。结果表明,通过调节磁控溅射时间和温度可以得到具有一定厚度,成分稳定,结构致密的ZrN薄膜,且溅射时间在1-20 min范围内时间越长薄膜附着力越大,溅射时间超过20 min,附着力趋于稳定;溅射温度在30-90℃范围内温度越高薄膜附着力越大,超过90℃溅射温度继续升高附着力减小。

关键词: ZrN薄膜 , 附着力 , 溅射时间 , 溅射温度

直流反应磁控溅射法注积ZrN薄膜

吴大维 , 张志宏 , 罗海林 , 郭怀喜 , 范湘军

材料研究学报

采用直流反应磁控溅射法淀积ZrN薄膜发现在(100)晶向硅片上ZrN薄膜按(111)晶向生长,控制生长工艺可以获得ZrN(111)晶向的外延生长膜.

关键词: ZrN薄膜 , null , null , null

磁控溅射ZrN薄膜厚度对其色度的影响

孙维连 , 安广 , 孙铂 , 王会强 , 李新领

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2012.02.013

采用中频非平衡磁控溅射技术在镜面不锈钢板上制备了ZrN薄膜,通过改变镀膜时间控制ZrN薄膜的厚度.用色差仪测定了不同厚度ZrN薄膜的L*,a*和b*值,绘制出不同厚度ZrN薄膜的L*,a*和b*值的变化曲线图,得出膜层厚度对薄膜色度的影响规律:膜层厚度低于63.7 nm时,随着膜层厚度的增加,L*和a*值无变化,b*值呈线性递增,且颜色逐渐趋于金黄色;膜层厚度高于63.7 nm时,随着膜层厚度的增加,薄膜颜色坐标未有明显变化,颜色为稳定的金黄色.

关键词: 沉积速率 , 膜层厚度 , ZrN薄膜 , 色度

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