李文秀
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张兵
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陈立峰
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张冰
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张志刚
功能材料
采用KH-570代替部分TEOS为前驱物,共水解缩聚反应制得疏水性SiO2膜,通过IR、DTG、SEM、接触角测试仪等手段对KH-570修饰后的SiO2膜进行表征,并对CH4和CO2渗透和分离进行研究。实验结果表明,修饰后（0.8KH-570）SiO2膜接触角达到94.2°,红外光谱分析表明修饰后SiO2膜疏水性增强;（0.8KH-570）SiO2膜具有完整性及在400℃水热稳定性;压差30kPa,分离因子随涂膜次数增加先增大后减小,涂膜5次达最大值2.13,超越了努森扩散理论分离因子1.66,此时分离效果好;对于涂膜5次的SiO2膜,CH4渗透通量随压差增加呈现非线性微增趋势,CH4/CO2分离因子几乎不变。
关键词:
SiO2膜
,
接触角
,
疏水性
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气体渗透
,
分离因子
