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不同温度热处理对P3HT:PCBM薄膜的光致发光谱的影响

於黄忠

功能材料

报道了聚噻吩(P3HT(poly(3-hexylthio—phene))及P3HT与C㈤的衍生物PCBM(6,6-phenyl C61-butyric acid methylester)共混体系的光致发光现象,分析了不同温度热处理对聚噻吩(P3HT)与C60的衍生物PCBM共混体系薄膜的光致发光谱的影响。结果表明,随着热处理温度的升高,P3HT:PCBM共混体系所成膜的峰强度增大,当温度升高至130℃时,共混膜的光致发光谱峰的强度趋于最大,这说明热处理有利于共混体系中高分子链的有序排列。

关键词: 热处理 , 聚合物 , 光电性能 , 共混体系

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