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碳化硼薄膜的电子束蒸发制备及表面分析

杨水长 , 廖志君 , 刘振良 , 范强 , 伍登学 , 卢铁城

稀有金属材料与工程

采用电子束蒸发技术制备碳化硼薄膜,利用X射线衍射(XRD)分析了薄膜的结构,测量了薄膜的X射线光电子能谱(XPS),并利用原子力显微镜(AFM)对薄膜进行表面分析.XRD结果表明:薄膜的结晶性随着衬底温度的升高逐渐转好,在较低的衬底温度下制备出多晶碳化硼薄膜.XPS分析得到了碳化硼薄膜表面的化学成分和结构特性,其主要成分为B_4C.AFM结果表明,薄膜表面光滑平整、均匀致密,随着衬底温度的升高薄膜均方根(RMS)粗糙度逐渐增大.

关键词: 电子束蒸发 , 碳化硼薄膜 , XRD , XPS

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