季鑫
,
周细应
,
宓一鸣
材料导报
采用磁控溅射法在硅基材上制备了Al-Cu-Fe薄膜,采用原予力显微镜(AFM)和X射线衍射仪(XRD)研究了不同溅射时间下Al-Cu-Fe薄膜的生长行为.结果表明.随着溅射时间的延长,Al-Cu-Fe薄膜的β晶相的衍射峰半峰宽逐渐减小,而λ晶相的衍射峰半峰宽则逐渐增大.Al-Cu-Fe薄膜的生长依次经历了小岛形核阶段、小岛结合阶段、连续薄膜阶段、晶粒长大阶段等4个阶段.另外,随着溅射时间的延长,Al-Cu-Fe薄膜的粗糙度呈现出先增大后减小的趋势.
关键词:
Al-Cu-Fe
,
粗糙度
,
薄膜
,
扩散系数
