陈婷
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郭平生
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王莉莉
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冯涛
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陈弈卫
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张哲娟
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林丽锋
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阙文修
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孙卓
液晶与显示
doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2007.03.010
采用磁控共溅射法在Si片表面镀NiTi膜作为碳纳米管生长的催化剂,制备出表面形貌特殊的碳纳米管薄膜,如"丘状"和"星状"的表面微结构.通过扫描电子显微镜对碳纳米管薄膜的形貌进行表征,采用二极管形式测试了碳纳米管薄膜的场发射性能.实验结果表明,这两种碳纳米管薄膜都具有优异的场发射性能,10μA/cm时的开启电场分别仅为1.02 V/btm和1.15 V/μm,在外加电场为2.4 V/μm时的电流密度分别达到4.32 mA/cm2和6.88 mA/cm2.通过场发射FN的曲线计算得到的场发射增强因子分别为10 113和6 840.这两种碳纳米管薄膜优异的场发射性能与其表面的微结构有关.表面的粗糙结构增强了部分碳纳米管的局域电场,易于发射电子.
关键词:
场发射显示
,
碳纳米管
,
场发射
,
表面形貌
