洪波
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姜传海
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王新建
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吴建生
金属学报
利用电沉积方法制备Ni-P非晶薄膜。借助原位X射线分析技术,分析连续加热过程中薄膜晶化与相变行为等。通过X射线定量分析,确定出不同温度下各相的析出量,由此计算各相的晶化与相变激活能以及晶化结晶度等。结果表明,Ni-P非晶薄膜的晶化与相变行为等,均与薄膜中P含量有关。在晶化过程中,发现了四种亚稳相即NiP、Ni2P、Ni12P5及Ni5P2。计算得到:NiP、Ni2P及Ni3P的相变激活能分别为 、 及 ;单个析出相的相变激活能低于Ni-P合金晶化激活能和Ni原子的自扩散激活能。
关键词:
Ni-P非晶薄膜
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crystallization process
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in suit XRD