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磁控溅射与硫化热处理制备β-In2S3薄膜及光电性能

关荣锋 , 尤亚军

功能材料 doi:10.3969/ji.ssn1.001-97312.0151.70.25

采用磁控溅射预制In薄膜和硫化热处理工艺制备了性能优良的β‐In2 S3薄膜。应用XRD、拉曼光谱仪及U V‐Vis测试仪对薄膜的品质进行了分析,并测试了薄膜的光学与电学性能。结果表明,溅射功率和硫化热处理温度是影响薄膜品质的主要因素,比较合适的溅射功率为100~140 W ,硫化热处理温度为450℃,过高的热处理温度容易在薄膜中形成缺陷,在薄膜生长过程中容易产生In5 S4杂相,相比之下,溅射气体压强对薄膜品质的影响较小,溅射气体压强可选择在04.~06.Pa。光学与电学性能测试结果指出,得到的β‐In2 S3薄膜具有良好的光谱透过率,属n型半导体,可用于太阳能电池缓冲层。

关键词: 薄膜太阳电池 , β-In2 S3 , 磁控溅射 , 硫化 , 热处理

Al-H共掺杂ZnO薄膜的形貌及光致发光性能研究

陈义川 , 胡跃辉 , 张效华 , 马德福 , 刘细妹 , 徐斌 , 张志明

人工晶体学报

在不同衬底温度条件下采用RF磁控溅射法在石英玻璃上沉积Al-H共掺杂ZnO薄膜.对所有样品进行晶体结构、表面形貌、电学、光学以及室温光致发光性能分析.结果表明:随着衬底温度的升高,ZnO薄膜的结晶度增加,晶粒增大,薄膜致密度增加;薄膜表面起伏变化减小;同时,电阻率最低达到7.58×10-4Ω·cm,透过率保持在75%左右.所有ZnO薄膜样品都以本征发光为主,Al-H共掺杂在一定程度降低ZnO薄膜缺陷发光的强度;随着衬底温度的升高,ZnO薄膜的本征发光强度明显增大;同时在能量为3.45 eV附近观察到了一个紫外发光峰.

关键词: Al-H共掺杂ZnO , 光致发光 , 磁控溅射

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