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辐射法制备布洛芬金属分子印迹聚合膜?

郭聪 , 王兵 , 皇甫风云 , 单娟娟

功能材料 doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2015.14.027

以消炎镇痛药(S)-布洛芬与 Cu2＋配合物为模板分子，以甲基丙烯酸为功能单体，乙二醇二甲基丙烯酸酯为交联剂，聚砜膜为多孔支撑层，利用辐射引发聚合制备了 Cu2＋配位分子印迹复合膜。通过紫外光谱研究发现，(S)-布洛芬、Cu2＋和甲基丙烯酸形成了配位比为1∶2∶2的3元配合物。通过扫描电镜及渗透实验发现聚砜基膜固含量为17％时，修饰后印迹膜形态及性能最好。同时，通过选择渗透实验发现，印迹膜对其手性对称物(R)-布洛芬及结构类似物酮洛芬渗透选择性较差。

关键词: 金属配位 , 分子印迹膜 , 布洛芬 , Cu2+