胡飞
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王晓丹
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李小红
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胡跃辉
材料热处理学报
p-Si薄膜在氢氟酸溶液中的电化学抛光是通过阳极溶解降低薄膜表面粗糙度.本文用线性扫描研究了在不同的氢氟酸浓度下的电化学行为,发现随氢氟酸溶液浓度的增加阳极溶解速率也随之增加.当氢氟酸浓度为4％及6％时,可得到平整的表面.电化学抛光技术为制备光亮硅面提供了一种简单可行的方法.
关键词:
电化学抛光
,
p-Si薄膜
,
阳极溶解
,
微细加工
殷景志
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龙北红
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邵丽梅
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阮圣平
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胡立发
,
刘永刚
,
宣丽
液晶与显示
doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2004.03.009
提出了一种生长p-Si薄膜的ECR-PECVD等离子体系统.系统采用永磁铁和线圈相结合,改善反应室磁场的均匀性;微波窗口设计成多层结构,避免窗口污染;衬底托架移动和旋转利于改善生长膜的均匀性.
关键词:
电子回旋共振
,
微波等离子体
,
p-Si薄膜
