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基于印刷电子的透明导电薄膜研究进展

赵文秀 , 周奕华 , 钱俊

影像科学与光化学 doi:10.7517/j.issn.1674-0475.2015.03.251

透明导电薄膜是一种在可见光范围内透光率较高、导电性优良的薄膜材料.近年来随着智能手机、平板电脑等电子产品日益普及,透明导电薄膜受到越来越多的关注.本文分析了目前占据市场统治地位的掺锡氧化铟透明导电薄膜的缺点以及近年来国内外对透明导电薄膜开展的研究工作,总结了目前在印刷电子领域透明导电薄膜的主要研究方向,一方面是在传统金属氧化物薄膜基础上的改进;另一方面是寻找新型透明导电薄膜材料,并分别综述了各个研究方向的最新进展.

关键词: 透明导电薄膜 , 印刷电子 , 喷墨打印 , 图案化 , 透明电极

静电雾化技术在生物医药材料中的应用

施丽君 , 周涓 , 朱君 , 何丹农

材料导报

静电雾化技术作为一种新的制备单分散微纳颗粒的方法,在原有基础上发展出多种衍生技术,目前被广泛应用到生物医药材料中.综述了静电雾化技术在生物医药材料领域中的应用进展,包括药物输送系统、生物材料表面修饰和细胞与生物大分子图案化等,分析了该技术应用中所存在的局限性,并展望了其未来发展方向.

关键词: 静电雾化 , 生物医药材料 , 药物输送系统 , 表面修饰 , 图案化

图形化硅纳米线阵列的制备

龚文莉 , 万丽娟 , 张健

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2009.06.012

本文主要研究了在常态(常温、常压等)条件下,利用金属催化化学腐蚀方法在硅片表面上大面积制备排列整齐、取向一致的硅纳米线阵列.同时,出于对后续制作硅纳米线传感器考虑,利用微电子标准加工工艺,以氮化硅做掩膜,通过选择合适的实验参数,在硅片表面选择性生长纳米线阵列,得到图形化的硅纳米线阵列.

关键词: 硅纳米线 , 选择性生长 , 图形化

印刷电子用金属材料的墨水化及图案化研究进展

杨文冬 , 刘春艳

影像科学与光化学 doi:10.7517/j.issn.1674-0475.2014.04.321

印刷电子是采用印刷工艺,把功能性墨水快速印制在有机或无机基材上,形成各种电子元件和线路的科学与技术.其中墨水的制备,即各种功能材料的墨水化,以及后续在软基材上的印刷成膜,即墨水的图案化,是决定印刷电子实用化发展的关键.本文主要介绍了金属材料的墨水制备及其印刷烧结技术的研究进展,讨论了印制电子带来的材料和技术的挑战及机遇,指出导电材料选择及其墨水化与图案化有机结合是未来印刷电子和材料发展的方向.

关键词: 印制电子 , 导电墨水 , 图案化

两种二硼化镁超导薄膜布图布线的湿法刻蚀技术

周章渝 , 杨发顺 , 杨健 , 王松 , 邓朝勇 , 傅兴华

材料导报

超导薄膜实现布图布线工艺是制备超导电子元件的必要步骤.报道了两种二硼化镁超导薄膜布图布线的湿法刻蚀技术:一种是先利用双氧水( H2O2)刻蚀前驱体硼薄膜,然后将刻蚀的样品放入钽坩埚中在镁蒸气下高温退火,实现了对超导薄膜二硼化镁(MgB2)布图布线的刻蚀;另一种是选用氢氟酸(HF)和硝酸(HNO3)的混合溶液直接在二硼化镁超导薄膜上进行图形刻蚀.通过上述两种方法刻蚀出的MgB2薄膜图形精确度高,超导转变温度Tc都在38K以上,临界电流Ic约为1×106 A/cm2.

关键词: MgB2超导薄膜 , 布图布线 , 湿法刻蚀

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