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哈氏合金表面粗糙度AFM测量中扫描尺度等问题研究

冯峰 , 瞿体明 , 肖绍铸 , 张燕怡 , 史锴 , 韩征和

稀有金属 doi:10.13373/j.cnki.cjrm.2014.02.007

哈氏合金Hastelloy C276是一种被广泛应用的镍基合金,具有机械性能优良、抗腐蚀能力强等优势,在第二代高温超导导线的离子束辅助沉积(IBAD)技术路线中被用作金属基底,因此其表面抛光与粗糙度测量受到了广泛重视.哈氏合金的表面形貌和粗糙度测量一般采用原子力显微镜(AFM)方法,在该方法中扫描尺度对测量结果具有显著的影响.本研究对两个分别进行了电化学抛光和机械抛光的哈氏合金带材短样,在1 ~ 70 μm范围内选取不同扫描尺度进行了AFM测量,从而对其表面形貌获得了全面的了解,并发现其表面粗糙度随着扫描尺度的变大出现了明显的增大,文中还在不同扫描尺度下考察了电化学抛光与机械抛光的作用区别.此外,本研究中分析了AFM图像的后处理中flatten阶数的影响,对从AFM图像中分割出小尺度局域计算粗糙度的方法进行了改进,并讨论了AFM测量粗糙度的可重复性问题.通过这些研究,对表面粗糙度的AFM测量方法在全面性和有效性方面进行了完善,提出了粗糙度描述时有必要给出的相关参数.

关键词: 原子力显微镜 , 哈氏合金 , 表面粗糙度 , 扫描尺度 , 抛光

碳钢在西部盐湖卤水中初期的"选择性"腐蚀研究

顾宝珊 , 宫丽 , 纪晓春 , 张启富

钢铁研究学报

进行碳钢在5%、10%、15%、20%、25%的NaCl水溶液和西部盐湖卤水溶液中腐蚀速率随时间变化的跟踪试验研究时发现:碳钢在盐湖卤水初期腐蚀速率较高,与5%NaCl溶液中腐蚀速率接近,随着试验的继续进行腐蚀速率迅速下降至低于所有浓度的NaCl溶液中的腐蚀率,经过410 d的全浸试验,碳钢表面无明显红锈.为研究碳钢在盐湖卤水中的这一异常现象,采用扫描电子显微镜、能谱仪(EDS)和X射线衍射仪(XRD),分别从宏观、微观角度对其腐蚀后的形貌与结构进行研究;同时采用电化学方法研究了溶解氧对碳钢在盐湖卤水中腐蚀行为的影响.研究表明:(1)碳钢在盐湖卤水0~40 d左右的腐蚀速度非常快,没有铁锈生成,已显现出清晰的铁素体与珠光体相,呈现出一种"选择性"腐蚀,这个时期的腐蚀速率与溶液中氧含量关系不大;(2)碳钢在盐湖水里50~70 d发生一种类似抛光作用;(3)碳钢在盐湖卤水70 d左右发生明显的局部腐蚀,这个时期碳钢在盐湖卤水中的腐蚀速率依然与溶液中氧含量关系不大.

关键词: 盐湖卤水 , 碳钢 , 选择性腐蚀 , 抛光 , 腐蚀行为与规律

纯铈稀土抛光粉中氟行为的研究

柳召刚 , 张盼 , 李梅 , 胡艳宏 , 王觅堂 , 陶豹

稀土

进行了抛光粉前驱体的研究,并以碳酸铈为前驱体,采用氢氟酸氟化、高温煅烧、球磨机球磨的方法制备得到中位粒径较小的含氟纯铈稀土抛光粉(REO≥99%).并对抛光粉进行了XRD、SEM、振实密度和松装密度实验、抛光实验等表征.结果表明:随着F掺入量的增加,抛光粉的振实密度和松装密度不断提高,抛蚀量在一定范围内也不断增加;对光学玻璃的抛光而言F掺入量为6%时出现最优值,对大理石装饰面而言取8%为宜;F的加入,首先出现CeF3,当到达一定的F含量以后开始出现CeF4;加F与未加F的CeO2经煅烧后形貌发生较大变化.

关键词: 纯铈稀土抛光粉 , 氟化铈 , 氟含量 , 抛光

低亚表面损伤的YCOB晶体超精密抛光

朱杰 , 张志萌 , 马爽

人工晶体学报

通过选择合适的研磨剂、抛光垫以及抛光材料,采用机械抛光与CMP抛光相结合的方法对应用于高激光损伤阈值的薄膜基体材料YCOB晶体进行表面加工.通过优化研磨抛光工艺后得到超光滑晶体表面,样品表面在125μm×94μm的范围内粗糙度RMS值达到0.6 nm,同时具有非常低的亚表面损伤层,经过超声清洗和有机溶剂刻蚀后,在高倍显微镜下无明显划痕.

关键词: 亚表面 , YCOB , 抛光 , CMP

2197铝锂合金化铣抛光工艺及其影响因素

刘刚 , 孟海燕

腐蚀与防护 doi:10.11973/fsyfh-201511021

通过正交试验筛选了适合2197铝锂合金化学铣切加工抛光工艺的槽液配方,探讨了材料状态、抛光温度和抛光时间对2197铝锂合金碱腐蚀及化学铣切后表面抛光性能的影响.结果表明,HNO3含量和温度是影响抛光效果的主要因素,CrO3的影响次之,HF最小.材料的不同状态对抛光有较大影响,T8态过时效的铝锂合金抛光后粗糙度最小,T6态欠时效的铝锂合金抛光后粗糙度最大.当抛光的配方和工艺条件为硝酸250 g/L、铬酐10 g/L、氢氟酸2 g/L、抛光时间2~3 min、抛光温度25℃时,2197铝锂合金化铣表面能获得良好的抛光效果.

关键词: 抛光 , 2197铝锂合金 , 表面粗糙度 , 光泽度 , 材料状态

新型铜及铜合金光亮酸洗工艺

王婷 , 沈晓 , 张红军 , 周瑛

电镀与涂饰

介绍了一种铜及铜合金无硝酸、无铬光亮酸洗工艺,其主要工序包括化学除油、盐酸漂洗和化学出光。通过正交试验对化学出光溶液组成进行优化,得到最优配方为:H2SO415%, H3PO420%,出光剂A(含氧化剂、缓蚀剂及表面活性剂)20%。该新型抛光剂适用于多种铜及铜合金,工件的光泽与传统混酸洗工艺相当,在自动线上必要的38 s内不会对工件产生过腐蚀。

关键词: 铜及铜合金 , 光亮酸洗 , 出光 , 正交试验 , 配方

大直径厚壁管二辊矫直机凹辊辊型有限元研究

孟启星 , 孙登月 , 许石民

钢铁

辊型结构改进目的在于在保证矫直精度前提下使凹辊对研究范围内管材表层形成的2条螺旋滚光带良好衔接,减轻滚光带之间间隙与重叠量。基于二辊矫直机凹辊对管材滚光原理,对凹辊辊型结构进行了改进,增加了专用滚光区;建立了辊型曲线滚光区长度计算的数学模型。在经过有限元试算、辊型曲线修正、有限元精算三步后,研究结果证明:辊型结构改进后,在保证矫直精度前提下,凹辊对研究范围内管材滚制所成2条滚光带重叠状况有了明显改善,表层塑性应变值由改进前的0.03~0.08降至了改进后的0.03~0.05左右。

关键词: 二辊矫直机 , 滚光 , 凹辊 , 塑性应变值 , 有限元

45钢电解-机械复合抛光工艺优化

时君丽 , 周茂军 , 曲洪伟

电镀与涂饰

采用电解-机械复合抛光工艺处理某压缩机45钢曲轴,以改善其表面粗糙度。通过单因素试验和正交试验对电解-机械复合抛光工艺进行优化,得到的最佳工艺条件如下:对于脉冲电解抛光,输出频率1000 Hz,方波占空比50%,电解液NaNO3的质量分数20%,电流密度50 A/cm2,工作电压10 V;对于机械抛光,砂轮转速160 r/min,磨削压力2 kg/cm2,砂带粒度号1500#。在最佳电解-机械复合抛光工艺下,45钢的粗糙度 Ra均低于0.3μm,比抛光前降低了70%以上,满足粗糙度应低于0.5μm的加工要求。

关键词: , 抛光 , 电解法 , 机械法 , 正交试验 , 粗糙度

熔石英元件抛光加工亚表面缺陷的检测

王洪祥 , 朱本温 , 王景贺 , 侯晶 , 陈贤华

材料科学与工艺 doi:10.11951/j.issn.1005-0299.20150202

亚表面缺陷的准确检测是进行亚表面损伤研究的前提和基础,对保证光学元件加工质量至关重要。基于HF酸化学蚀刻法对熔石英元件抛光加工产生的亚表面水解层、缺陷层深度和亚表面损伤形貌进行了定量检测,并利用X射线荧光光谱法研究了熔石英抛光试件杂质元素的种类和元素含量沿深度分布规律,提出了熔石英元件抛光加工亚表面损伤深度的判定方法。研究表明:由于水解层和亚表面缺陷层的存在,熔石英抛光试件的蚀刻速率随着时间的增加呈现递减的趋势,且在蚀刻的初始阶段蚀刻速率下降尤为明显;当蚀刻深度超过某一特定值后,全部或部分覆盖在水解层以下的缺陷层将会被完全蚀刻去除,蚀刻速率基本保持不变;另外,熔石英抛光试件存在多种形式的表面及亚表面缺陷,在不同蚀刻深度,亚表面损伤形貌、划痕的宽度和深度也存在一定的差异。

关键词: 熔石英元件 , 亚表面缺陷 , 抛光加工 , 损伤形貌 , 划痕

玻璃材料高速抛光用固着磨料磨具试验研究

林旺票 , 王洁 , 杭伟 , 吴喆 , 邓乾发 , 袁巨龙

表面技术 doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2015.04.026

目的:实现玻璃材料的高效高质量低成本抛光。方法选择不同添加剂作为辅料制作固着磨料抛光磨具,阐明制作工艺流程、添加剂辅料配方及比例、固着磨料磨具对材料硬度、剪切强度等性能的影响。以工件材料去除率、表面质量以及磨耗比等作为评价指标分析不同添加剂辅料对加工效果的影响,并通过等效系数优化方法确定添加剂辅料的最优配方。结果碳化硅与钼酸铵可增加磨具的硬度和剪切强度,磨具中加入适量氧化铝可有效提高工件表面质量。结论固着磨料抛光磨具的添加剂辅料最优配方为:10.6%(质量分数)4000# Al2O3和2%(质量分数)10000# SiC。

关键词: 玻璃 , 固着磨料 , 磨具 , 抛光

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