贺永宁
,
朱长纯
,
侯洵
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2008.03.002
ZnO半导体是宽带隙半导体领域中继GaN和SiC之后的研究热点.同时,作为一种氧化物半导体,ZnO半导体在能带结构、晶格缺陷、抗辐照特性以及电学性质等方面具有特殊性,已有的研究中还存在一些不同的认识.本工作在阐述ZnO的晶体结构和基本性质基础之上,对其能带结构和缺陷特征、电子输运以及P型掺杂等主要的半导体特性研究现状进行了较为全面综述和分析.由于ZnO半导体具有高的激子束缚能、优良的电子输运性质、强抗辐照特性以及低成本和环境友好等显著特征,它是未来半导体光电子领域极具应用潜力的新一代宽带隙半导体材料,但是到目前为止,p型掺杂技术仍然是ZnO半导体器件面临的最大挑战.
关键词:
ZnO
,
宽带隙半导体
,
晶体缺陷
,
电子输运
,
p型掺杂
王新胜
,
杨天鹏
,
刘维峰
,
徐艺滨
,
梁红伟
,
常玉春
,
杜国同
材料导报
ZnO是一种新型的Ⅱ-Ⅵ族宽带隙半导体,具有很多优异的的光电性能.但一般制备出的ZnO薄膜材料均是n型,很难实现p型的掺杂.ZnO的p型掺杂是实现其光电器件应用的关键技术,也是目前ZnO研究的关键课题.目前在p型ZnO的掺杂理论和实验方面都有很大的进展,对此进行了详细的分析与论述,并且展望了p型ZnO薄膜制备的前景.
关键词:
ZnO薄膜
,
p型掺杂
,
第一性原理
,
MOCVD
,
MBE
赵浙
,
叶志镇
材料导报
p型GaN薄膜的实现是发展光电器件的关键工艺.使用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)方法已经获得实用性的p型掺杂,但是其电学和光学特性都不能让人满意.最近几年在掺杂工艺的改进和掺杂模型的理论研究方面都取得了显著进展.介绍了p型掺杂GaN中的自补偿模型、共掺杂工艺的原理和进展、PL谱的性质以及一些新的掺杂工艺.
关键词:
GaN薄膜
,
p型掺杂
,
综述
,
自补偿模型
,
共掺杂工艺
朱仁江
,
孔春阳
,
马勇
,
王万录
,
廖克俊
材料导报
ZnO薄膜作为第三代半导体功能材料,高质量的p型掺杂是基于光电器件应用的关键.概述了ZnO薄膜V族元素氮、磷、砷(N、P、As)p型掺杂的研究进展,分析对比了3种元素的掺杂和p型转变特性,简单介绍了共掺杂技术,提出了有待进一步研究的问题.
关键词:
氧化锌
,
p型掺杂
,
共掺杂
,
V族元素
宋杨
,
梁淑华
人工晶体学报
为了研究ZnO:Sb的掺杂机理,本文运用第一性原理密度泛函理论计算了理想纤锌矿ZnO和SbO 、SbZn 、SbZn-2VZn三种Sb掺杂ZnO晶体模型的几何结构、能带结构和电子态密度.计算结果表明:sb的掺人使得晶格发生不同程度的膨胀,其中以SbZn-2VZn复合缺陷模型的膨胀最小,键长最短,说明此结构的化学稳定性最高.通过能带和态密度的分析可知,ShO和SbZn模型存在不合理性,而SbZn-2VZn复合缺陷中的VZn可以使价带产生非局域化空穴载流子.定量计算进一步确认了SbZn-2VZn构型的可填充电子数最多,合理解释了晶体导电性的提高.形成能计算表明,在富氧条件下SbZn-2VZn的形成能最低,说明在富氧条件下掺杂Sb更有利于实现ZnO的p型化.
关键词:
ZnO
,
p型掺杂
,
第一性原理
,
大尺度失配掺杂
吕建国
,
叶志镇
功能材料
ZnO是一种新型的Ⅱ～Ⅵ族半导体材料.文章详细介绍了ZnO薄膜在其晶格特性、光学、电学和压电性能等方面的研究,特别是ZnO薄膜的紫外受激辐射特性,另外,对ZnO的p型掺杂和p-n结特性的最新进展也作了探讨.
关键词:
ZnO薄膜
,
晶格特性
,
光电性能
,
p型掺杂
王秀章
,
晏伯武
,
郭建林
材料导报
场效应晶体管是现代微电子技术的重要组成部分.为制备氧化锌薄膜晶体管,分析了氧化锌的p型、n型掺杂特性,对p型掺杂进行了实验分析和理论探讨,比较了各种制备氧化锌薄膜晶体管的工艺特点,展示了ZnO在未来电子和光电子领域的潜在应用.
关键词:
氧化锌
,
薄膜
,
p型掺杂
,
制备
朱嘉琦
,
卢佳
,
田桂
,
檀满林
,
耿达
无机材料学报
doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2008.05.040
以固态掺杂方式利用过滤阴极真空电弧技术制备掺硼非晶金刚石薄膜,获得性能优良的宽带隙p型半导体材料,再利用等离子增强化学气相沉积技术制备p-i-n结构非晶硅人阳电池的本征层和n型层,最终制成以掺硼非晶金刚石薄膜为窗口层的非晶硅人阳电池.利用Lambda950紫外-可见光分光光度计表征薄膜的光学带隙,并测试电池开路电压、短路电流、填充因子以及转化效率等参数,再分析电池的光谱响应特性.实验表明,掺硼非晶金刚石薄膜的光学带隙(～2.0eV)比P型非晶硅更宽,以掺硼非晶金刚石薄膜用作非晶硅太阳电池的窗口层,能够改善电池的光谱响应特征,并提高转化效率达10%以上.
关键词:
非晶金刚石薄膜
,
非晶硅太阳电池
,
p型掺杂
,
转化效率
李允怡
,
王伟
,
刘志军
,
龚威
,
解其云
材料导报
doi:10.11896/j.issn.1005-023X.2017.07.008
Ⅲ族氮化物半导体材料(InN、GaN、AlN)由于能带结构的特殊性,使其在光电器件与微波等领域得到广泛应用.其中,研究和发展InN材料及器件已被公认是占领光电信息技术领域战略至高点的重要途径,InN材料的p型导电以及室温铁磁性研究更是成为Ⅲ族氮化物中新颖的研究课题.首先简单介绍InN的晶体结构和制备方法,并分析其目前所遇到的挑战,然后重点阐述国际上关于InN在p型掺杂以及铁磁性领域的研究进展,同时介绍本课题组在该方面的研究,最后进行了简要总结和展望.
关键词:
氮化铟
,
p型掺杂
,
铁磁性
,
薄膜制备
李驰平
,
张铭
,
宋雪梅
,
王波
,
李彤
,
严辉
材料导报
ZnO薄膜作为一种多功能半导体材料,近年来一直受到广泛关注.然而,如何制备高质量的p型ZnO薄膜是实现其实用化的关键.概括了p型掺杂困难的原因,并指出Ⅲ-Ⅴ族元素共掺杂可能是p型掺杂的最好方法.简单回顾了ZnO薄膜p型掺杂的研究现状,并对今后的发展趋势进行了展望.
关键词:
ZnO薄膜
,
p型掺杂
,
共掺杂方法
