Xiufang CHEN
材料科学技术（英）
Three main machining processes of large-diameter 6H-SiC wafers were introduced in this paper. These processes include cutting, lapping and polishing. Lapping causes great residual stresses and deep damage layer which can be reduced gradually with subsequent polishing processes. Surfaces prepared by mechanical polishing (MP) appeared a large number of scratches with depth of 5~8 nm. These scratches can be effectively removed by chemo-mechanical polishing (CMP). After CMP, extremely smooth and low damage layer surface with roughness Ra=0.3 nm was obtained. Atomic force microscopy (AFM) and optical microscopy were used to observe the surface morphology of samples and a high resolution X-ray diffractometer (HRXRD) was used for the crystal lattice perfection of the subsurface region. Changes of surface residual stresses during machining processes were investigated by HRXRD.
关键词:
6H-SiC
,
MP
,
CMP
,
roughness
乔生儒
,
张程煜
稀有金属材料与工程
在工具钢表面采用电弧蒸发物理气相沉积TiN涂层中,将不锈钢编织网置于基底和蒸发源之间,以得到不连续的TiN涂层.检验了无涂层、连续涂层和不连续涂层3种表面状态的性能,其中在室温和200℃下做了无润滑和润滑条件下的盘-块和球-盘滑动摩擦试验.结果表明,在滑动条件下,不连续的TiN涂层可同时减小工具钢的磨损量和磨损速度.3种表面状态下的高速切削中,与无涂层和连续涂层比较,不连续TiN涂层由于寿命增加具有优势.
关键词:
PVD
,
连续涂层
,
不连续涂层
,
摩擦行为
,
粗糙度
,
切削性能
吴昊
,
张桂香
电镀与涂饰
分别以46#机械油和煤油对440c不锈钢表面进行磁力研磨。通过正交试验对研磨加工的工艺参数进行优化，从表面粗糙度、基体质量损耗、三维表面形貌等方面对比研究了上述2种研磨液对不锈钢表面光整效果的影响。结果表明，以机械油为研磨液时的光整效果更好，磁力研磨的最佳工艺条件为：主轴转速2500 r/min，加工间隙1.8 mm，进给速率60 mm/min，磨料填充量2.0 g。在最佳工艺条件下研磨后，工件的表面粗糙度由0.381μm降至0.032μm，大量毛刺和划痕得以去除，镜面效果良好。
关键词:
不锈钢
,
磁力研磨
,
研磨液
,
表面形貌
,
粗糙度
梁庆瑞
,
胡小波
,
陈秀芳
,
徐现刚
,
宗艳民
,
王希杰
人工晶体学报
研究了一种新型的化学机械抛光方法,使用以KMnO4作为氧化剂的强氧化性化学机械抛光液(SOAS)进行化学机械抛光.研究了在4H-SiC硅面和碳面的化学机械抛光过程中,SOAS溶液中KMnO4的浓度对抛光质量的影响.使用原子力显微镜(AFM)和精密电子天平,分别测试了表面粗糙度和去除率.结果表明,适量的KMnO4可以大幅度提高4H-SiC的化学机械抛光去除率,同时可提高4H-SiC衬底的表面抛光质量.
关键词:
碳化硅
,
化学机械抛光
,
高锰酸钾
,
粗糙度
,
去除率
张化宇
,
刘良学
,
马洪涛
,
刘凡新
,
刘会良
,
王东
材料科学与工程学报
doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2006.05.010
采用FCVA工艺成功制备了ta-C薄膜,采用ECR-CVD工艺对部分ta-C薄膜试样进行氮等离子体处理,制备了ta-C:N薄膜.对两种薄膜的表面粗糙度与元素含量、沉积工艺参数之间的关系进行了研究.通过AFM对薄膜表面粗糙度进行了分析,通过XPS对薄膜的元素含量进行了分析.试验结果显示,沉积条件对薄膜厚度和元素含量具有明显的影响.对ta-C薄膜进行氮等离子体处理后,其表面粗糙度有一个明显的起伏变化.研究结果表明,氮能改变DLC薄膜表面的粗糙度.元素含量也随着薄膜的厚度变化而变化.
关键词:
ta-C:N
,
AFM
,
XPS
,
粗糙度
季鑫
,
周细应
,
宓一鸣
材料导报
采用磁控溅射法在硅基材上制备了Al-Cu-Fe薄膜,采用原予力显微镜(AFM)和X射线衍射仪(XRD)研究了不同溅射时间下Al-Cu-Fe薄膜的生长行为.结果表明.随着溅射时间的延长,Al-Cu-Fe薄膜的β晶相的衍射峰半峰宽逐渐减小,而λ晶相的衍射峰半峰宽则逐渐增大.Al-Cu-Fe薄膜的生长依次经历了小岛形核阶段、小岛结合阶段、连续薄膜阶段、晶粒长大阶段等4个阶段.另外,随着溅射时间的延长,Al-Cu-Fe薄膜的粗糙度呈现出先增大后减小的趋势.
关键词:
Al-Cu-Fe
,
粗糙度
,
薄膜
,
扩散系数
李成文
,
贾力
,
张田田
工程热物理学报
搭建了微槽道的单相实验台，分析了氮气在不同深／宽比、长径比及水力直径的微槽道中流动特性。层流区的摩擦常数与理论预测值吻合较好（除L=20mm工况），层流到湍流的转捩均有不同程度的提前（转捩Re数在1000左右）；在湍流区，槽道的长径比变小、相对粗糙度的增大（或水力直径的减小）及长度的减小可使流动阻力增大；拟合出了湍流区微槽道的几何参数与摩擦常数的关联式。
关键词:
长径比
,
深/宽比
,
相对粗糙度
,
摩擦常数
