陈显明
,
罗承萍
,
刘江文
材料工程
doi:10.3969/j.issn.1001-4381.2009.12.013
镁合金微弧氧化膜层的生长按一定的成膜规律进行.从氧化过程中样品各部分尺寸的变化中发现,氧化前期是以向基体外生长为主,而后期则以向基体内生长为主.用ICP-AES仪器研究了基体中的合金元素向溶液中迁移规律.并估算了薄膜生长前期的各种料子运动情况,认为微弧氧化前期膜层的生长速度受电解液中的传质速度所控制.而薄膜生长后期则由扩散方程所控制,其中氧离子的扩散至为关键.
关键词:
镁合金
,
微弧氧化
,
规律
,
膜层
,
扩散
