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二氧化硅基质包埋硅纳米晶的微观结构和发光性能

王乙潜梁文双G.G.ROSS

材料研究学报

利用离子注入和后续高温退火的方法制备了包埋在二氧化硅(SiO2)基质中的硅纳米晶, 研究了不同离子注入浓度试样的微观结构和发光性能, 以及硅纳米晶的生长机理和发光机制. 结果表明:  较小的硅纳米晶(<5 nm)其生长机理符合Ostwald熟化机理, 较大的纳米晶(>10 nm)则是由多个小纳米晶粒通过孪晶组合或融合而成的; 离子注入浓度为8 ×1016cm-2的样品其发光强度是离子注入浓度为3×1017cm -2样品发光强度的5倍;硅纳米晶内部的微观结构缺陷(如孪晶和层错)对其荧光强度有很大的影响.

关键词: 无机非金属材料 , Si nanocrystals , transmission electron microscopy , growth mechanism , photoluminescence

CONTAMINATION LINE METHOD AND COMPARISON OF FOIL THICKNESS MEASUREMENT METHODS IN TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPY

PAN ZhenpengGuangdong Mechanical College. Guangzhou. China

金属学报(英文版)

The paper briefly introduces the Contamination Line Method for foil thickness measurement in transmission electron microscopy and compares it with four conventional methods: the convergent beam diffraction method, the contamination spot method, the methods hased on characteristic X-ray emission and continuous X-ray emission on the application, aperation and accuracy etc.

关键词: transmission electron microscopy , null

SHOT-PEENING STRENGTHENED LAYER AND ITS EFFECT ON FATIGUE STRENGTH OF α-BRASS

TAN Yuxu REN Liping LI Gang Xi'an Jiaotong University , Xi'an , China Institute of Metallic and Strength , Xi'an Jiaotong University , Xi'an , China

金属学报(英文版)

In shot peened α-brass surface layer{111} type planar defects and deformation microtwins have been observed by means of TEM analysis.The density of microtwins deereases with the increase of layer depth.The enhancement of fatigue strength and the unrelaxation of residual stress after shot peening are concerned in the substructures of strengthened layer.

关键词: residual stress , null , null , null

Microstructural characteristics of epitaxial BaSrNb0.3Ti0.7O3 film

Li′na CHENG

材料科学技术(英)

Microstructural characteristics in the BaSrNb0:3Ti0:7O3 thin film, grown on SrTiO3 substrate by computercontrolled laser molecular beam epitaxy, were characterized by means of transmission electron microscopy (TEM). It is found that the film is single-crystallized and epitaxially grown on the SrTiO3 substrate forming a flat and distinct interface. Anti-phase domains were identified, and the crystallographic features of mismatch dislocations at the interface between film and substrate were clarified. The high conductivity of the present film was discussed from the viewpoint of Nb dopant and the nitrogen atmosphere.

关键词: BaSrNb0.3Ti0.7O3 thin film , thin , film , epitaxial , gro

催化裂解聚苯乙烯制备碳纳米管的研究

龚耀庭 , 刘宝春 , 侯超

材料导报

通过在60℃氮气气氛中催化裂解聚苯乙烯,制备了大量管径为5~40nm的高质量的碳纳米管.利用扫描电子显微镜、透射电子显微镜和拉曼光谱对所制备的碳纳米管进行了表征.研究表明,所制备的碳纳米管石墨化程度高,在碳纳米管的管壁上仅有少量的无定形碳存在.催化裂解聚苯乙烯制备碳纳米管是一种有前途、低成本的绿色化学方法.

关键词: 碳纳米管 , 聚苯乙烯 , 扫描电子显微镜 , 透射电子显微镜

焊后时效处理对2219铝合金 VPTIG 接头微区组织和显微硬度的影响

苏頔瑶 , 吴素君 , 晋会锦

航空材料学报 doi:10.11868/j.issn.1005-5053.2015.3.009

研究了不同温度焊后时效处理对2219铝合金变极性钨极氩弧焊(VPTIG)接头各微区显微组织的影响,采用显微硬度测试和透射电镜观察分析焊接接头各微区析出相的形貌和分布。结果表明,焊后时效处理温度不同,焊接接头各微区显微组织和硬度发生的变化不同。热影响区中的完全回复区对焊后时效最为敏感,低温处理时显微硬度就有明显增长,并在160℃处理时达到最大涨幅;焊缝区变化相对较小,其显微硬度的最高涨幅出现在210℃,且小于前者;热影响区中的过时效区最为稳定,显微硬度的最大增长同样出现在160℃,但涨幅很小。透射电镜观察表明,焊接接头各微区的显微硬度变化主要与时效强化相的析出行为有关。

关键词: 2219 铝合金 , 微观组织 , 显微硬度 , 焊后时效处理 , 透射电镜

金属玻璃剪切带中应力诱导的纳米缺陷形成

顾晓峰 , 王军 , 秦卫东 , 寇宏超 , 李金山 , 周廉

稀有金属材料与工程

以非晶锆基金属玻璃薄带制备透射电子显微镜样品,并利用透射电镜找到在弯曲样品过程中产生的剪切带.高分辨透射电镜技术揭示在剪切带中存在着纳米级的空洞类和高密度区域缺陷.这些缺陷被认为是在机械负载和外应力移除过程中应力激发的自由体积演化而成的,其演化过程可以通过和在相同的金属玻璃样品上的热退火过程作类比来定性地理解.

关键词: 金属玻璃 , 透射电子显微镜 , 剪切带 , 退火

二极溅射沉积Fe-N-O薄膜的形貌与结构分析

崔国栋 , 杨川 , 高国庆

功能材料

利用二极溅射的方法在不同衬底上沉积了Fe-N-O薄膜.通过扫描电子显微镜(SEM)、光电子能谱(XPS)和透射电子显微镜(TEM)等先进实验分析手段对二极溅射沉积Fe-N-O薄膜的形貌与结构进行了分析.XPS和TEM的结果表明,薄膜的主要成分为FeO和少量的Fe16N2多晶体组成,生长上存在择优取向;表面均匀、致密、平整,晶粒大小在50nm左右.

关键词: Fe-N-O薄膜 , SEM , XPS , TEM

锆基金属玻璃中离子减薄诱导的微结构变化

顾晓峰 , 郝卫娟 , 王军 , 寇宏超 , 李金山

稀有金属材料与工程

用电化学双喷、凹坑法和离子减薄制备了4组Zr52.5Cu17.9Al10Ti5金属玻璃的透射电子显微镜样品.透射电镜观测表明,电子透明区域的微结构随采用的离子减薄条件变化敏感.通过对比选区电子衍射花样和相同成分样品等温退火的X衍射花样发现,在一些严重依赖于离子减薄制备的电镜样品中存在显著的加热效应,导致在离子减薄区域形成了不同的有序结构.在那些特意使用长时间减薄的样品中,可达到约780 K的局域峰值温度,远远超过了该成分的玻璃转变温度.这个结果表明,在用离子减薄获得非晶合金的电镜样品时,必须注意减薄过程所诱导的潜在的微结构变化,以避免得到错误的判断.

关键词: 透射电子显微镜 , 离子减薄 , 微结构 , 金属玻璃

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