任明放
,
冯湘
,
王华
,
许积文
兵器材料科学与工程
doi:10.3969/j.issn.1004-244X.2010.02.006
采用直流磁控溅射工艺,室温下在载玻片上制备ZnO:Al透明导电薄膜.研究Al掺杂和溅射功率对薄膜生长取向、微观结构和电阻率的影响.研究表明:不同溅射功率下Al掺杂ZnO薄膜均为高度c-轴择优取向生长;在1%～3%(质量分数)的掺杂范围内,薄膜的电阻率随掺杂孱的增加而减小,掺杂的质量分数超过3%后,薄膜的电阻率又有所增大.溅射功率通过改变晶粒尺寸和晶界所产生的散射作用而影响薄膜的导电性能,溅射功率低于100 W时,薄膜的电阻率随功率增加而明显降低,但超过100 W后,薄膜的电阻率下降趋缓,并最终趋于平稳.在Al掺杂的质量分数为3%、溅射功率为100 W的条件下,可获得2.3×10~(-3) Ω·cm的最低电阻率.
关键词:
氧化锌铝
,
透明导电薄膜
,
导电性能
,
磁控溅射
李海金
,
孟洁
,
刘义
,
张蓓
,
程干
材料导报
doi:10.11896/j.issn.1005-023X.2015.08.003
采用溶胶-凝胶法在石英玻璃基片上制备出了Pr掺杂ZnO透明导电薄膜,研究了Pr掺杂对ZnO透明导电薄膜结构、形貌、光学和电学性能的影响.实验结果表明,Zn1-xPrxO薄膜均为纤锌矿结构,当Pr掺杂含量为1％时,Zn1-xPrxO薄膜的结晶质量最好、可见光平均透过率最高、电阻率最低,具有最佳的光电综合性能.
关键词:
溶胶-凝胶法
,
ZnO∶Pr薄膜
,
透明导电薄膜
