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热处理对WO3薄膜光学性质的影响

杨晓红 , 孙彩琴 , 闫勇彦

功能材料

直流反应磁控溅射法制备了WO3薄膜,薄膜在723K纯N2气中被退火处理.热处理前WO3薄膜为无定形态,热处理后为多晶态.采用透射谱和单谐振子模型获得了薄膜的折射率和消光系数,得到退火前后谐振子能量分别为5.77和5.28eV,色散能为19.9和15.9eV.分析表明退火前后吸收边附近均表现出间接带隙的两段线性关系,间接带隙分别为3.14和2.96eV,声子能量为32和149meV,退火后带隙减小推测可能是由于退火薄膜晶化,氧填隙粒子导致的带尾态效应消失的结果.

关键词: 三氧化钨薄膜 , 退火 , 光学常数 , 间接带隙

WO3/Si纳米晶薄膜的脉冲准分子激光沉积及结构分析

方国家 , 刘祖黎 , 姚凯伦

无机材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2002.01.023

采用脉冲准分子激光大面积扫描沉积技术,在Si(111)单晶衬底上沉积了WOx薄膜.采用X射线衍射(XRD)、喇曼光谱(RS)、付里叶红外光谱(FT-IR)及透射电镜扫描附件(STEM)对不同条件下沉积的样品进行了结构分析.结果表明,氧分压和沉积温度是决定薄膜结构和成份的主要参数.在沉积温度300°C以上及20Pa氧压下得到了三斜相纳米晶WO3薄膜.

关键词: 三氧化钨薄膜 , 纳米晶 , 脉冲准分子激光沉积(PLD) , 结构分析 , Si(111)衬底

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