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柱弧离子镀和非平衡磁控溅射镀制备Ti-N-C黑色硬质膜

马胜歌 , 康光宇

材料保护 doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2007.04.013

采用柱弧离子镀和中频孪生靶非平衡磁控溅射镀膜技术制备了Ti-N-C多层复合黑色硬质膜.采用轮廊仪扫描电子显微镜(SEM)、分光光度计、显微硬度计等手段研究了所得膜层的各项性能.结果表明,两种工艺都可以获得颜色较深的黑色硬质膜,柱弧离子镀制备黑色硬质膜的效率高、力学性能更好;中频孪生靶非平衡磁控溅射制备的黑色硬质膜表面光滑、颜色更深.

关键词: 黑色硬质膜 , Ti-N-C , 柱弧离子镀 , 中频溅射 , 非平衡磁控溅射

采用中频反应磁控溅射技术沉积氮化锆薄膜

杨钰瑛 , 孙维连 , 李新领 , 王会强 , 孙玉梅

材料热处理学报 doi:10.3969/j.issn.1009-6264.2007.02.007

采用中频反应磁控溅射技术沉积ZrN薄膜,在真空镀膜机内对称安装了3对矩形孪生靶.利用等离子体发射光谱和质谱仪QMS200分别实时监控真空炉内靶材表面的谱线变化和各种气氛的分压强,并通过控制系统氮气流量自动调控,从而消除了靶中毒和打火现象,确保了溅射镀膜的稳定进行.通过对氮化锆膜层的显微组织观察、X射线衍射和俄歇半定量分析,沉积的氮化锆薄膜膜层致密,与基体的结合牢固.结果表明:当炉内氮气分压强为45%,控制靶电压200V,靶电流为25A,逐步调节Ar与N2比例,可获得成分均匀,膜层致密,结合力较好的金黄色氮化锆薄膜.

关键词: 中频溅射 , 孪生对靶 , 氮化锆 , 薄膜

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