欢迎登录材料期刊网

材料期刊网

高级检索

  • 论文(1)
  • 图书()
  • 专利()
  • 新闻()

短沟道n-MOSFET亚阈值电流模拟计算分析

王洪涛 , 王茺 , 胡伟达 , 杨洲 , 熊飞 , 杨宇

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2010.04.003

本文基于亚阈值电流和表面势模型的基础上,采用商用器件模拟软件,建立了短沟道n-MOSFET的结构和物理模型,对器件的亚阈值电流进行了2-D数值模拟.计算了不同沟道掺杂浓度、氧化层厚度以及沟道长度对器件亚阚值电流的影响,并对模拟结果进行了系统的理论分析,数值模拟结果和解析模型能够在亚阈值区很好的吻合.

关键词: 短沟道n-MOSFET , 亚阈值电流 , 解析模型 , 数值模拟

出版年份

刊物分类

相关作者

相关热词