马晋
材料保护
在交流微弧氧化中,不同时段电参数的变化将影响氧化膜的生长及形态,过去对引起电参数变化的原因报道较少.以自制的交流电源对2A12铝合金进行微弧氧化,采用TASI676型测厚仪测试了不同微弧氧化时段氧化膜的厚度,采用JSM-5610LV型扫描电子显微镜(SEM)分析了氧化膜的表面形貌,并结合微弧氧化等效电路研究了电参数的变化及其原因.结果表明:在交流微弧氧化初始阶段(0～15 min),氧化膜表面形貌发生变化,形成了多孔结构氧化膜层;多孔结构氧化膜层中产生的气膜改变了膜层的电介质性质,气膜的击穿放电是导致微弧氧化过程中电参数发生变化的主要因素;电参数发生变化即为氧化膜快速生长阶段,适当调整电参数,可以获得理想的氧化膜.
关键词:
交流微弧氧化
,
电参数变化
,
多孔结构氧化膜
,
气膜击穿放电
杜云慧
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张鹏
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王玉洁
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郝志强
稀有金属材料与工程
采用交流微弧氧化处理技术,在氟化钾+氢氧化钾处理液中,对AZ91D镁合金进行了表面处理研究.建立了膜层厚度与处理参数之间的关系模型,确定膜层的组织构成,讨论膜层生长机理,优化快速成膜技术参数.结果表明:在氟化钾浓度为979 g/L、氢氧化钾浓度为349 g/L、调压器输出电压为81V、处理液温度为32℃的条件下,对工件处理88 s,就可形成30 μm厚的由氟化镁和氧化镁构成的致密表面膜层,该成膜速度较其它处理技术的成膜速度至少提高了7倍.
关键词:
AZ91D镁合金
,
表面处理
,
交流微弧氧化
,
快速成膜
周慧
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李争显
,
杜继红
,
张建军
,
姬寿长
稀有金属材料与工程
采用交流微弧氧化方法,在硅酸盐溶液中于锆合金表面沉积了一层厚约28μm的氧化膜.用扫描电镜(SEM),能谱(EDS)及X射线衍射(XRD)分析了氧化膜的组织形貌、元素分布及相组成.通过测量试样在5%NaCl溶液中的点腐蚀电位,评估了氧化膜的保护性能.研究结果表明:氧化膜自内而外分为3层,即过渡层,致密层和疏松层.疏松层厚度达18μm,与致密层的界面存在明显孔洞,因此结合性较差;过渡层和基体、致密层与过渡层之间结合牢固.Si元素存在于氧化膜中,这说明电解液中的SiO32-参与了微弧氧化反应.氧化膜主要由M-ZrO2相和T-ZrO2相组成.锆合金表面的微弧氧化膜具有良好的耐蚀性能.
关键词:
锆合金
,
交流微弧氧化
,
氧化膜
