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WSi2的价电子结构及其性能研究

彭可 , 易茂中 , 冉丽萍

稀有金属材料与工程

根据固体与分子经验电子理论,通过键距差(BLD)方法,计算了金属间化合物WSi2的价电子结构和理论结合能.结果表明,WSi2理论结合能为1859.5 kJ/mol,与实验值吻合.WSi2晶体中,沿<331>位向分布的W-Si键的键能最大,EA=33.397 kJ/mol,且有32个等同键数,是晶体熔化时必须破坏的主干键络,因而WSi2具有高熔点.WSi2晶体中含有较高密度的晶格电子,使WSi2具有良好的导电性.WSi2晶体中键络分布不均匀性是导致晶体脆性的主要原因.

关键词: WSi2 , 价电子 , 结合能 , 导电性 , 脆性

MoSi2价电子结构分析及结合能计算

彭可 , 易茂中 , 陶辉锦 , 冉丽萍

中国有色金属学报

根据固体与分子经验电子理论,通过键距差(BLD)方法,计算了金属间化合物MoSi2的价电子结构和理论结合能.结果表明,MoSi2理论结合能为1 677.1 kJ/mol,与实验值吻合.由于Si原子偏移,沿〈001〉方向分布的Si-Si原子键共价电子数最多,nD=0.402 04.MoSi2晶体中含有较高密度的晶格电子,使MoSi2具有良好的导电性.MoSi2晶体中键络分布不均匀性是导致晶体脆性的主要原因.

关键词: 二硅化钼 , 价电子 , 结合能 , 脆性

材料中施受交换电子的电导机制

田锡芝

材料与冶金学报 doi:10.3969/j.issn.1671-6620.2004.03.012

金属中相邻原子间交替施受互换价电子是金属键合的基本模式[1].作者据此研究金属、半导体、绝缘体中的施受交换电子结构,并进而探讨这种结构与上述材料导电特性的关系.

关键词: 施受 , 价电子 , 电导 , 金属 , 半导体 , 绝缘体

Au液异质形核价电子模型与基底触媒效用

梁高飞 , 宋长江 , 刘向阳 , 许振明 , 李建国

稀有金属材料与工程

异质形核是凝固领域的核心问题之一,界面共格对应理论无法解释金液滴异质形核过程中ZrC,TiC,TiN等基底的触媒作用优于TiO的现象.利用余氏"固体与分子经验电子理论"以及程氏"改进的TFD模型中表面电子密度相等的边界条件",分析表明界面共格对应并不是有效触媒基底的本质要求;在Tillen静电作用理论基础上,建立了Au液凝固异质形核价电子模型与基底触媒效用判据,据此分析了ZrC,TiC,TiN,TiO基底对Au液滴异质形核的触媒效用,与实验结果吻合.

关键词: , 异质形核 , 凝固 , 触媒 , 价电子

Re掺杂对Mo3Sb7能带结构以及热电性能的影响

邓孝龙 , 韩琳 , 梁青爽 , 刘孝娟 , 武晓杰 , 孟健

稀有金属 doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2013.06.009

运用传统固相法合成了Re掺杂的Mo3-xRexSb7(x=0,0.05,0.10)系列化合物,并通过热压烧结得到了致密样品.采用X射线粉末衍射(XRD)和X射线能量色散谱(EDS)表征了样品的相成分,同时经过第一性原理计算分析了Re掺杂对Mo3Sb7能带结构的影响,进而研究了Re掺杂对Mo3Sb7热电性能影响的规律.结果表明:当掺杂量x≤0.1时,Re均匀地掺杂于晶格中形成固溶体且所有样品均无第二相杂质生成,同时晶胞参数随着Re掺杂量的增长而减小.Mo3Sb7作为一种P型三维导电材料,当每化学单位的Mo3Sb7额外获得两个化学单位的价电子将由金属转变为半导体.在Re掺杂后Mo3 Sb7费米面上移,这是因为Re比Mo多一个价电子,但由于固溶度的限制,Re掺杂并不能使其转化为半导体,且Re掺杂对于费米面处能带形状以及禁带宽度的影响也非常有限.由于Re较多的价电子,因此Re的引入降低了化合物Mo3Sb7的电导率,并提高了其热电势值,而电导率的降低也必然会减小载流子贡献的热导率,同时Re掺杂增加了晶格无序也降低了其晶格热导率,因此Mo3Sb7总的热导率得到了降低,最后其热电性能得到了提高.其中,经过Re掺杂后的化合物Mo2.90Re0.10Sb7在860 K下ZT值达到0.127,比化合物Mo3Sb7提高了23.3%.

关键词: Re掺杂 , 价电子 , Mo3Sb7 , 热电性能

MoSi2和WSi2的价电子结构及性能分析

彭可 , 易茂中 , 冉丽萍

金属学报 doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2006.11.002

根据固体与分子经验电子理论,对M0Si2和WSi2的价电子结构进行了定量的分析,通过键距差方法计算了MoSi2和WSi2晶体中各键上的共价电子数.结果表明:在MoSi2和WSi2晶体中,沿<331>位向分布的Mo-Si和W-Si原子键最强,这些键上的共价电子数和键能分别影响化合物的硬度和熔点.晶体中晶格电子数影响其导电性和塑性,MoSi2晶体中含有较高密度的晶格电子,因此MoSi2的导电性和塑性比WSi2好.并从键络分布的不均匀性解释了MoSi2和WSi2脆性产生的原因.

关键词: MoSi2 , WSi2 , 价电子 , 硬度 , 导电率

TiO2光催化中价电子的转移过程及其作用

孙伟 , 刘保顺 , 赵修建 , 赵青南

材料导报

简要分析了二氧化钛光催化中价电子转移过程,即价电子跃迁和电子空穴复合过程,指出价电子转移过程的变化必然引起TiO2光催化效率的变化,重点说明了改变电子受体的种类、半导体表面改性、重金属表面改性、阴离子掺杂和金属离子掺杂等方法的具体原理,进一步探讨了价电子转移过程同光催化效率之间的关系.

关键词: 价电子 , 光催化 , 二氧化钛

Ni2 MnGa合金的价电子结构研究

郑馥 , 蔡伟 , 赵连城

材料科学与工艺 doi:10.3969/j.issn.1005-0299.2002.04.019

用"固体与分子经验电子理论"研究了Ni2MnGa合金的价电子结构,研究结果表明,在Ni2MnGa中,Ni的杂化状态为A'种杂化第2阶;Mn的杂化状态为B种杂化第9阶,Ga为A种第9阶杂化.Ni的原子磁矩计算值为3.8666μB,与试验值4μB十分接近.最强的共价键是Ni-Mn键,其上的共价电子对数为0.577,其次为Ni-Ga键,其价电子对数为0.542,其它键上的共价电子对数小于0.2.

关键词: Ni2MnGa , 经验电子理论 , 价电子

MoSi2和WSi2的价电子结构及性能分析

彭可 , 易茂中 , 冉丽萍

金属学报

根据固体与分子经验电子理论,对MoSi2和WSi2的价电子结构进行了定量的分析,通过键距差方法计算了MoSi2和WSi2晶体中各键上的共价电子数。结果表明,在MoSi2和WSi2晶体中,沿<331>位向分布的Mo-Si和W-Si原子键最强,这些键上的共价电子数和键能分别影响化合物的硬度和熔点。晶体中晶格电子数影响其导电性和塑性,MoSi2晶体中含有较高密度的晶格电子,因此MoSi2的导电性和塑性比WSi2好。并从键络分布的不均匀性解释了MoSi2和WSi2脆性产生的原因。

关键词: 二硅化钼 , tungsten disilicide , valence electron , hardness , null

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