贾巧英
,
唐永兴
功能材料
分别通过引入甲基三乙氧基硅烷(MTES)、二甲基二乙氧基硅烷(DMDES)以及六甲基二硅氮烷(HMDS)组分对SiO2悬胶体进行改性,得到不同甲基化的多孔SiO2改性薄膜.研究了改性薄膜的光学稳定性,抗激光破坏性能以及机械抗擦性能.结果表明,HMDS改性薄膜的光学稳定性最好而机械抗擦性较弱,MTES与DMDES改性薄膜的光学稳定性较低而机械抗擦性良好且均与改性组分的含量有关,甲基化改性薄膜的抗激光破坏性能比未改性薄膜的有所降低.
关键词:
甲基化
,
光学稳定性
,
SiO2 增透薄
,
改性
牛彦彦
,
姚兰芳
,
王晓栋
,
田冰涛
,
沈军
低温物理学报
采用溶胶-凝胶法,以正硅酸乙酯为前驱体,氨水为催化剂,通过六甲基二硅氮烷(HMDS)对溶胶改性,使用提拉法镀膜,并经过低温热处理制备了具有良好防潮抗真空性能的SiO2减反膜.对薄膜的防潮性能、水接触角、真空抗污染能力、结构等进行了测试表征.结果表明:掺HMDS的溶胶制备的二氧化硅膜层峰值透过率为99.7％;水接触角可达154°;在相对湿度大于90％的环境中保存7天和在二甲基硅油作为污染源的真空环境中放置30天,透过率仅分别下降0.05％和0.35％,防潮耐真空稳定性较未改性薄膜都得到极大提高.
关键词:
溶胶-凝胶
,
减反膜
,
光学稳定性
