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Ag、Cu离子先后注入SiO2玻璃后形成的米题粒的光学性质研究

陈海波 , 蒋昌忠 , 石瑛 , 付强

功能材料

采用由金属蒸汽真空弧离子源(MEVVA)引出的强束流脉冲Ag、Cu离子,先后注入到SiO2玻璃.注入的剂量均为5×1016ions/cm2,Ag的加速电压为43kV,Cu的加速电压为30kV.光学吸收谱显示吸收峰的位置在442nm,可以推测Ag、Cu在SiO2玻璃表层形成了纳米合金.借助X射线光电子能谱仪(XPS)考察注入样品的价态分布,观察到Ag、Cu仍大多以金属态形式存在.对样品进行退火后,发现光学透射率发生了明显的变化.

关键词: 金属离子注入 , 光学透射率 , 纳米颗粒 , 表面等离子体共振吸收 , XPS

氧分压对反应磁控溅射ZrO2薄膜光学透射率的影响

赵莎 , 徐可为

功能材料

从氧空位、表面粗糙度及晶界三方面,讨论了氧分压对射频反应磁控溅射ZrO2薄膜光学透射率的影响.结果表明,随氧分压增大,氧空位的减少使单斜相逐渐占优,缺氧状况的改善使薄膜透射率逐渐升高;高氧分压下,出现颗粒聚集现象,表面粗糙度大幅增加及晶粒的聚集长大,使薄膜透射率下降.

关键词: 氧分压 , 反应磁控溅射 , ZrO2薄膜 , 光学透射率

Ag离子注入石英玻璃光学透射率研究

陈海波 , 蒋昌忠 , 石瑛 , 付强

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2003.01.005

用 Mevva离子源,将 Ag离子注入到石英玻璃中形成纳米晶粒.离子注入的能量为 90keV, 剂量分别为 5× 1015、1× 1016、3× 1016、5×1016、 1× 1017ions/cm2. X光电子能谱( XPS)分析纳米 Ag 颗粒没有发生化学反应, 说明 Ag仍以金属态形式存在.光学透射率测试表明, 吸收峰的位置在 400nm,当剂量大于 5× 1016 ions/cm2时,发现在 440nm左右有一伴峰.分析表明 400nm的峰来源 于表面等离子体共振吸收,而 440nm的伴峰是注入离子形成了少数非常大的纳米颗粒以及纳米颗 粒之间相互作用引起的.样品退火后, 表面等离子体共振吸收峰红移,而伴峰消失.随着退火的 温度升高,峰位红移越大,说明纳米颗粒尺寸增大.

关键词: 离子注入 , 纳米晶体 , 光学透射率

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